[发明专利]校正离子源效率低下的方法使得样品间归一化成为可能在审

专利信息
申请号: 201980055086.9 申请日: 2019-06-24
公开(公告)号: CN112771375A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: C·W·W·比彻尔;F·德京 申请(专利权)人: 伊罗亚科技有限公司
主分类号: G01N30/86 分类号: G01N30/86;G01N30/72;H01J49/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 童春媛;李唐
地址: 美国北卡*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 校正 离子源 效率 低下 方法 使得 样品 归一化 成为 可能
【权利要求书】:

1.一种在质谱(MS)分析性分析期间校正离子的源内损耗或传输损耗并使用校正的离子数据以针对样品间差异进行归一化的方法,其包括以下步骤:

a. 对分析样品进行质谱分析以提供指示存在的每种化合物的母峰和一个或多个子峰的峰集的原始数据,所述分析样品由两个部分的生物产生和/或半合成产生的分子量为约100,000 Da至约60 Da的化合物构成,其中第一部分为天然同位素丰度的第一同位素实验样品,并且第二部分是化学复杂的内标样品,所述内标样品含有约50至约10,000种可存在于所述实验样品中的、有同位素特征的含第二同位素的化合物,其中所述天然丰度样品和所述内标样品两者中都存在的那些化合物被称为成对峰集;

b. 分开地校正所述成对峰集中的每一种的离子损耗,并将其用于确定归一化因子,其中

i)通过将每种化合物的内标校正为作为实验确定的恒定值且始终相同的值来校正每种化合物的源内损耗,以提供损耗校正的内标值,

ii)将在每种分析样品中的每种化合物的第一同位素/第二同位素比率确定为所述原始数据中所见的化合物的所有天然丰度第一同位素峰的总面积或峰集高度分别除以所述原始数据中所见的化合物的所有内标第二同位素峰集的总面积或峰集高度,

iii)天然丰度化合物的损耗校正的天然丰度值通过将所述损耗校正的内标值乘以每种所述化合物的第一同位素/第二同位素比率而确定,

c. 使用归一化算法,以及对于所述分析样品的天然丰度部分和内标部分两者的所有成对峰集如此获得的所有校正值,确定所有校正的成对峰化合物的归一化因子,其中

i)所述内标部分的总和是两个分析物部分中都存在的所有化合物的损耗校正的内标值的总和,

ii)所述天然丰度部分的总和是两个分析物部分中都存在的所有化合物的损耗校正的天然丰度值的总和,

iii)通过将所述天然丰度部分的总和[上述ii)]除以所述内标部分的总和[上述i)],来计算每种分析物样品的归一化因子;和

d)通过将每个单独的损耗校正的天然丰度值乘以所述归一化因子的倒数来对每种天然丰度化合物的样品进行归一化,以提供归一化天然丰度值。

2.根据权利要求1所述的方法,其中每种化合物的损耗校正的内标值为自另一分析的数据获得的实验确定的值。

3.根据权利要求2所述的方法,其中所述内标中每种化合物的值从赋值数据库检索。

4.根据权利要求1所述的方法,其中每种化合物的损耗校正的内标值是自目前分析中的数据通过实验确定的。

5.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一同位素为碳-12 (C12)且所述第二同位素为碳-13 (C13)。

6.根据权利要求1所述的方法,其中所述同位素特征由除氢和氘以外的同一原子的第一同位素和第二同位素提供,所述同位素选自碳(C12和C13)、氮(N14和N15)、氧(O16、O17或O18)、硫(S32、S33、S34或S36)、氯(Cl35和Cl37)、镁(Mg24、Mg25和Mg26)、硅(Si27、Si28和Si29)、钙(Ca40、Ca42、Ca43和Ca4)和溴(Br79和Br81)。

7.根据权利要求1所述的方法,其中所述成对化合物的同位素特征符合IROA模式。

8.根据权利要求7所述的方法,其中所述同位素特征由天然最丰富的同位素以及一种或多种选自C13、N15、O17、O18、S33、S34、S36、Cl37、Mg25、Mg26、Si28、Si29、Ca42、Ca43、Ca44和Br81的对应稳定同位素提供。

9.根据权利要求1所述的方法,其中所述同位素特征通过使所述分析样品的第一部分和第二部分的化合物分开地与含有同一反应性基团的等同位素体试剂对中的一种或另一种反应而以半合成方式提供,所述反应性基团与所述分析样品部分中存在的一种或多种成对化合物的官能团反应并键合。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊罗亚科技有限公司,未经伊罗亚科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980055086.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top