[发明专利]用于测量对准标记的位置的设备和方法

权利要求书

1.一种用于测量衬底上的多个对准标记中的每一个对准标记的位置的设备，包括：

照射系统，所述照射系统被配置成将辐射束引导到所述衬底上的所述多个对准标记上，

投影系统，所述投影系统被配置成投影来自所述衬底的所述多个对准标记的图像，所述多个对准标记的图像是由所述辐射束从所述多个对准标记的衍射产生的；

光学块，所述光学块被配置成调制来自所述衬底的被投影的所述多个对准标记的图像，并且

其中所述光学块被配置成将所述多个对准标记的被调制的图像投影到感测元件上，所述感测元件被配置成产生信号，所述多个对准标记中的每一个对准标记的位置根据所述信号被并行地确定。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述投影系统被配置成使得所述多个对准标记的图像被同时投影到所述光学块中，并且所述光学块被配置成将所述多个对准标记的被调制的图像同时投影到所述感测元件的不同部分上。

3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述设备被配置为使得所述多个对准标记的被调制的图像被顺序地投影到所述感测元件上。

4.根据权利要求3所述的设备，其中所述投影系统包括光学元件，其中所述光学元件被配置成将所述多个对准标记的图像顺序地引导到所述光学块中。

5.根据权利要求4所述的设备，其中所述光学元件是能够旋转的反射镜，其中所述能够旋转的反射镜被配置成在一角度范围内旋转，使得所述多个对准标记的图像被所述能够旋转的反射镜顺序地反射到所述光学块中。

6.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述感测元件包括多个像素，其中所述感测元件的所述多个像素中的每一个像素被配置成将由被所述辐射束扫描的所述多个对准标记中的每一个对准标记导致的周期性强度变化转换成所述信号，其中所述信号是针对所述多个对准标记中的每一个对准标记的独立的信号。

7.根据权利要求6所述的设备，其中所述光学模块被配置成将所述多个对准标记的被调制的图像中的每一个被调制的图像投影到所述感测元件的所述多个像素中的多于一个像素上，并且所述感测元件被配置成将来自所述对准标记的被调制的图像被投影到其上的所述多个像素中的每一个像素的信号进行组合。

8.根据从属于权利要求3-5时的权利要求6或7所述的设备，其中所述感测元件被配置为产生所述信号，使得所述信号能够被采样以针对所述多个对准标记中的每一个对准标记构造所述独立的信号。

9.根据权利要求3-5所述的设备，其中所述感测元件包括单个像素，其中所述单个像素被配置成将由被扫描的所述多个对准标记导致的周期性强度变化转换成所述信号，使得所述信号能够被采样以针对所述多个对准标记中的每一个对准标记构造独立的信号。

10.根据权利要求3-5和9中任一项所述的设备，其中所述投影系统还包括传输系统，所述传输系统被配置成将所述辐射束从所述投影系统的第一光瞳平面传输到第二光瞳平面，其中所述光学元件位于所述第二光瞳平面中。

11.一种量测设备，所述量测设备包括根据前述权利要求中任一项所述的设备。

12.一种光刻设备，所述光刻设备被布置成将来自图案形成装置的图案投影到衬底上，所述光刻设备包括根据权利要求1-10中任一项所述的设备。