[发明专利]用于多个带电粒子束的装置

权利要求书

1.一种带电粒子光学系统，包括：

第一偏转器阵列，被配置为使由源生成的初级带电粒子束的多个束波偏转；

第一透镜，被配置为聚焦所述多个束波，以在图像平面上形成所述源的多个图像；以及

物镜，被配置为将所述多个图像投影到样品上并且在所述样品上形成多个探测点。

2.根据权利要求1所述的带电粒子光学系统，还包括：

光束分离器，被配置为分离所述多个束波和次级带电粒子，所述次级带电粒子是由于所述多个探测点的照射而从所述样品发射的。

3.根据权利要求2所述的带电粒子光学系统，其中所述图像平面至少在所述光束分离器附近。

4.根据权利要求3所述的带电粒子光学系统，其中由所述第一偏转器阵列偏转的所述多个束波的偏转角被设置以获取所述多个探测点的预定间距并且减小所述多个探测点的像差。

5.根据权利要求1所述的带电粒子光学系统，还包括第一孔径阵列，所述第一孔径阵列在所述第一偏转器阵列上方并且被配置为限制所述多个探测点的电流。

6.根据权利要求5所述的带电粒子光学系统，还包括第二透镜，所述第二透镜在所述带电粒子源与所述第一孔径阵列之间并且被配置为聚焦所述初级带电粒子束。

7.根据权利要求6所述的带电粒子光学系统，其中所述第二透镜被配置为将所述初级带电粒子束聚焦为平行光束。

8.根据权利要求7所述的带电粒子光学系统，其中所述第二透镜是被配置为改变所述多个探测点的所述电流的可移动透镜。

9.根据权利要求7所述的带电粒子光学系统，还包括被配置为补偿所述多个探测点的像差的补偿器阵列。

10.根据权利要求7所述的带电粒子光学系统，还包括主孔径，所述主孔径在所述第二透镜上方、靠近所述源、并且被配置为切断所述初级带电粒子束的未在所述多个束波中使用的外围部分。

11.根据权利要求10所述的带电粒子光学系统，还包括第二孔径阵列，所述第二孔径阵列在所述主孔径与所述第一孔径阵列之间、并且被配置为切断所述初级带电粒子束的未在所述多个束波中使用的部分。

12.根据权利要求11所述的带电粒子光学系统，其中所述第二孔径阵列在所述第二透镜上方并且靠近所述源。

13.根据权利要求9所述的带电粒子光学系统，还包括第二孔径阵列，所述第二孔径阵列在所述第二透镜上方、靠近所述源、并且被配置为切断所述初级带电粒子束的未在所述多个束波中使用的部分。

14.根据权利要求6所述的带电粒子光学系统，还包括第二偏转器阵列，所述第二偏转器阵列被配置为使所述多个束波偏转为正入射到所述第一孔径阵列上。

15.一种在样品上形成多个探测点的方法，所述方法包括：

使由带电粒子源生成的光束的多个束波偏转；

通过透镜聚焦所述多个束波，以在图像平面上形成所述源的多个图像；以及

将所述多个图像投影到样品上，以在所述样品上形成多个探测点。