[发明专利]图案化微流体装置及其制造方法

权利要求书

1.一种微流体装置，其包括:

包含表面的第一基板；

设置在第一基板中的流动通道，使得流动通道的侧壁在流动通道的底部与所述表面之间延伸；

设置在流动通道的底部上的膜；

设置在膜上的孔阵列；以及

与第一基板的表面结合的第二基板，由此第二基板至少部分覆盖流动通道，

其中，所述微流体装置由以下方法制造，所述方法包括：

在第一基板上沉积一层珠粒；

减小设置在第一基板上的珠粒的尺寸；

在减小珠粒的尺寸之后将膜沉积到第一基板上，由此在珠粒之间的间隙区域将膜沉积到第一基板上；

从第一基板去除珠粒，以在膜中形成孔阵列；以及

将第二基板结合到第一基板的表面，以将孔阵列包围在第一基板和第二基板之间的腔中，使得所述孔阵列具有以下至少一者：（i）直径的低变化性，每个区域上所有孔的平均直径的标准偏差至多20%；（ii）深度的低变化性，每个区域上所有孔的平均深度的标准偏差至多10%；或（iii）间距的低变化性，平均间距的标准偏差至多20%。

2.根据权利要求1所述的微流体装置，其中孔阵列具有直径的低变化性，每个区域上所有孔的平均直径的标准偏差至多20%。

3.根据权利要求1所述的微流体装置，其中孔阵列具有深度的低变化性，每个区域上所有孔的平均深度的标准偏差至多10%。

4.根据权利要求1所述的微流体装置，其中孔阵列具有间距的低变化性，平均间距的标准偏差至多20%。

5. 根据权利要求1所述的微流体装置，其中流动通道的深度为30 µm至500 µm。

6.根据权利要求1-5中任意一项所述的微流体装置，其中孔阵列的底表面包含流动通道的底部的暴露部分。

7.根据权利要求6所述的微流体装置，其中：

第一基板包含玻璃基板；

膜设置在玻璃基板上；以及

流动通道的底部的暴露部分包含玻璃。

8.根据权利要求6所述的微流体装置，其中：

第一基板包含玻璃基板和设置在玻璃基板上的表皮；

膜设置在该表皮上；以及

流动通道的底部的暴露部分包含该表皮。

9.根据权利要求8所述的微流体装置，其中表皮包含金属、金属氧化物、硅或二氧化硅中的至少一种。

10.根据权利要求1-5中任意一项所述的微流体装置，其中孔阵列的底表面包含能够与蛋白质和/或核苷酸接合的涂层。

11.根据权利要求10所述的微流体装置，其中涂层包含胺封端的硅烷、环氧基封端的硅烷、羧酸酯基封端的硅烷、硫醇封端的硅烷、含不饱和部分的硅烷衍生物中的至少一种。

12.根据权利要求10所述的微流体装置，其中涂层包含胺封端的有机磷酸酯、含环氧基的有机磷酸酯或羧酸酯有机磷酸酯中的至少一种。

13.根据权利要求10所述的微流体装置，其中涂层包含聚合物材料，该聚合物材料包含氨基、酸酐基、叠氮基或溴基中的至少一种。

14.根据权利要求1-5中任意一项所述的微流体装置，其中：

第一基板包含玻璃基板；以及

流动通道的至少一部分设置在玻璃基板中。

15.根据权利要求1-5中任意一项所述的微流体装置，其中：

第一基板包含玻璃基板和设置在玻璃基板上的间隔件层；以及

流动通道设置在间隔件层中。