[发明专利]转矩产生装置在审

专利信息
申请号: 201980052294.3 申请日: 2019-03-22
公开(公告)号: CN112567148A 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: 久家祥宏;高桥一成;高桥未铃 申请(专利权)人: 阿尔卑斯阿尔派株式会社
主分类号: F16D37/02 分类号: F16D37/02;F16D63/00;F16F9/53
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 刘文海
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 转矩 产生 装置
【权利要求书】:

1.一种转矩产生装置,其特征在于,

所述转矩产生装置具备:

转子,其能够进行旋转动作;

密封构件,其将所述转子的周围密封而形成密封空间;

场产生部,其以能够与所述密封构件分离的方式配置于所述密封构件的外部,并产生通过所述密封空间的电场或者磁场;

控制部,其控制所述场产生部,而控制通过所述密封空间的电场或者磁场的大小;以及

功能性材料,其以能够流动的方式被封入所述密封空间内,并与通过所述密封空间的电场或者磁场的大小相应地使所述转子的所述旋转动作的转矩变化,

所述密封构件具备将所述转子支承为能够进行旋转动作的支承部,并以能够与所述场产生部分离的方式设置。

2.根据权利要求1所述的转矩产生装置,其中,

所述密封构件包括多个构件,多个所述构件中的第一密封构件具备所述支承部。

3.根据权利要求2所述的转矩产生装置,其中,

多个所述构件中的第二密封构件位于所述场产生部与所述转子之间。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的转矩产生装置,其中,

所述功能性材料是磁粘性流体,

所述场产生部是产生通过所述磁粘性流体的磁场的磁场产生部。

5.根据权利要求4所述的转矩产生装置,其中,

所述密封构件的位于所述场产生部与所述转子之间的部分是磁透过构件,所述磁透过构件具有能够使所述磁场产生部产生的磁场向所述密封空间透过的大小的磁阻。

6.根据权利要求5所述的转矩产生装置,其中,

所述磁透过构件由金属的非磁性构件构成,所述金属的非磁性构件能够使所述磁场产生部产生的磁场透过所述磁粘性流体。

7.根据权利要求4至6中任一项所述的转矩产生装置,其中,

所述磁场产生部在所述转子的旋转的中心轴延伸的方向上配置于所述密封空间的上侧。

8.根据权利要求4至6中任一项所述的转矩产生装置,其中,

所述磁场产生部在以所述转子的旋转的中心轴为中心的径向上配置于所述密封空间的外侧。

9.根据权利要求4至8中任一项所述的转矩产生装置,其中,

所述转矩产生装置具有能够调整所述密封空间的容积的调整部。

10.根据权利要求9所述的转矩产生装置,其中,

所述调整部是所述密封构件所具有的挠性的板状构件,并能够通过所述板状构件的变形而调整所述密封空间的容积。

11.根据权利要求9所述的转矩产生装置,其中,

所述调整部是所述密封构件所具有的波纹构造,并能够通过所述波纹构造的变形而调整所述密封空间的容积。

12.根据权利要求9至11中任一项所述的转矩产生装置,其中,

所述磁场产生部具备与所述密封构件连接的固定构件,

在所述固定构件设置有凹部,

所述调整部能够通过在所述凹部的空间内使所述密封构件变形,而调整所述密封空间的容积。

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