[发明专利]阻隔膜、波长转换片材及波长转换片材的制造方法

说明书

本发明的阻隔膜具备：气体阻隔性膜；和配置于一个最表面上的底漆层，底漆层由使用底漆层形成用组合物所形成的固化物构成，且表面的润湿指数为40dyn/cm以上，底漆层形成用组合物含有具有反应性碳‑碳双键的树脂、不具有反应性碳‑碳双键但具有伯羟基的树脂、和聚异氰酸酯化合物的。

技术领域

本公开涉及阻隔膜、波长转换片材及波长转换片材的制造方法。

背景技术

使用了量子点等荧光体的波长转换片材的亮度及颜色重现性高，期待在显示器中的采用。但是，量子点等荧光体会因与氧或水蒸汽的接触而发生劣化。因此，在波长转换片材中，经常采用在包含荧光体的荧光体层的单侧或两侧的面上配置有在高分子膜上形成有气体阻隔层的阻隔膜的结构。

例如，专利文献1中，通过在丙烯酸树脂及环氧树脂中分散有量子点的荧光体层的两面上粘贴阻隔膜，从而防止了氧等侵入到荧光体层中。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2014/113562号

发明内容

发明要解决的技术问题

但是，如专利文献1中记载的那种分散有为无机材料的量子点的荧光体层与阻隔膜的密合性差，有在荧光体层与阻隔膜之间发生剥离的危险。另外，不限于专利文献1记载的那种量子点膜，在具有层叠有荧光体层和阻隔膜的结构的光学层叠体中，由于阻隔膜的剥离会对性能降低造成很大的影响，因此要求阻隔膜与荧光体层的密合性的提高。进而，将光学层叠体长时间放置于高温高湿环境下时，荧光体层与阻隔膜之间的剥离更易发生，由于该剥离，具有水分或氧自片材端部侵入、荧光体层的发光特性易于劣化的问题。因此，对光学层叠体要求即便是在高温高湿环境下长时间放置时、也可维持荧光体层与阻隔膜的优异密合性。

本公开鉴于上述现有技术所具有的技术问题而作出，其目的在于提供在可获得对荧光体层的优异密合性的同时、即便是在高温高湿环境下长时间放置时也可维持优异密合性的具备底漆层的阻隔膜、具备该阻隔膜的波长转换片材及波长转换片材的制造方法。

用于解决技术问题的手段

为了实现上述目的，本公开提供一种阻隔膜，其具备气体阻隔性膜和配置于一个最表面上的底漆层，所述底漆层由使用底漆层形成用组合物所形成的固化物构成，且表面的润湿指数为40dyn/cm以上，所述底漆层形成用组合物含有具有反应性碳-碳双键的树脂、不具有反应性碳-碳双键但具有伯羟基的树脂、和聚异氰酸酯化合物。