[发明专利]粉体的成膜方法、粉体成膜用容器和ALD装置

权利要求书

1.一种粉体的成膜方法，其特征在于，具有下述工序：

分散工序，将容纳有粉体的容器设置于分散装置主体，利用所述分散装置主体使所述容器旋转或摇动从而使所述容器内的所述粉体分散；

ALD工序，将从所述分散装置主体取出的所述容器以能够导入和排出气体的状态设置于ALD装置主体，导入用于在所述容器内实施ALD循环的气体而使其充满所述容器内，之后将所述气体排气，使所述粉体的表面成膜。

2.如权利要求1所述的粉体的成膜方法，其特征在于，不对所述粉体进行强制加热而实施所述ALD循环。

3.一种容器，其为在权利要求1所述的粉体的成膜方法中使用的容器，该容器可自由地装卸于所述分散装置主体和所述ALD装置主体两者，其特征在于，具有：

容器主体，容纳所述粉体；

气体导入口，将气体导入所述容器主体内；

排气口，对所述容器主体内进行排气；

第1过滤器，配置于所述容器主体内，一方面允许所述气体的通过，另一方面阻止所述粉体通向所述气体导入口；和

第2过滤器，配置于所述容器主体内，一方面允许所述气体的通过，另一方面阻止所述粉体通向所述排气口，

粉体以能够取出放入的方式容纳于由所述容器主体、所述第1过滤器和所述第2过滤器隔出的粉体容纳室；

所述容器主体包括：

第1盖部；

第2盖部；和

主体部，

所述第1盖部气密地安装于所述主体部的一端，所述第1盖部能够卸下，

所述第2盖部气密地安装于所述主体部的另一端，所述第2盖部能够卸下，

所述第1盖部包括所述气体导入口和所述第1过滤器，

所述第2盖部包括所述排气口和所述第2过滤器。

4.一种ALD装置，其特征在于，其具有：

权利要求3所述的容器；和

ALD装置主体，导入用于在所述容器内实施ALD循环的气体而使其充满所述容器内，之后将所述气体排气，使所述粉体的表面成膜。