[发明专利]用于装饰元件的膜的制造方法

说明书

本公开涉及一种用于装饰元件的膜的制造方法，该方法包括以下步骤：在膜的一个表面上沉积两个以上的岛；以及通过使用岛作为掩模对膜进行干蚀刻来形成图案部。

技术领域

本申请要求2018年8月31日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2018-0103951号和2018年8月31日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2018-0103960号的优先权和权益，其全部内容通过引用并入本文。

本公开涉及一种用于装饰元件的膜的制造方法。

背景技术

为了提高产品的价值，在外观设计(颜色、形状等)中需要反映各种客户意见，并增强产品的原始功能。对于诸如化妆品铭牌或移动电话外壳的各种产品，通过附接能够获得各种颜色和纹理的装饰膜来装饰外观。装饰膜的设计要素(颜色、色感、纹理等)由图案层、颜色层、反射层、彩色膜以及印刷层的颜色控制。除了这种方法之外，还可以通过将颜色层图案化来控制装饰膜的设计特性。

在一般的图案化工艺中，使用掩模来分配在曝光工艺期间曝光的光致抗蚀剂/膜的区域，并且通过随后的蚀刻工艺，光致抗蚀剂/膜被图案化。图案的尺寸、形状等最终由掩模的尺寸和形状确定。作为非传统的图案化工艺，有时使用以下方法：薄沉积金属薄膜，并且在通过热处理将金属薄膜转变为岛形状之后，使用金属薄膜作为掩模。这是利用薄膜的不稳定性和热处理工艺将薄膜转变成稳定的岛形状，并且，由于需要额外的热处理工艺，因此具有以下缺点：该方法难以在易受热影响的塑料基板上使用。

发明内容

技术问题

本公开涉及一种用于装饰元件的膜的制造方法。

技术方案

本公开的一个实施例提供了一种用于装饰元件的膜的制造方法，该方法包括：将两个以上的岛沉积在膜的一个表面上；以及通过使用岛作为掩模对膜进行干蚀刻来形成图案部。

有益效果

根据本公开的用于装饰元件的膜的制造方法，可以在不进行单独的热处理工艺的情况下形成岛掩模。

另外，根据本公开的用于装饰元件的膜的制造方法，可以容易地蚀刻膜而无需使用岛作为掩模的单独的掩模。

另外，根据本公开的用于装饰元件的膜的制造方法，可以在不会由于热处理而损坏膜或基板的情况下蚀刻膜。

另外，根据本公开的用于装饰元件的膜的制造方法，可以通过容易地蚀刻低阻抗膜或光吸收层来制造高阻抗的装饰元件。

附图说明

图1和图26是分别示出本公开的用于装饰元件的膜的制造方法的图。

图2至图4示出了膜对蚀刻气体的反应性的测试。

图5至图7示出了示例1至3的蚀刻工艺之前和之后的膜的表面。

图8至图15是示出参考例的沉积的铟岛掩模形状的图。

图12和图13是示出示例4的沉积铟岛掩模形状的图。

图11是表示PMMA对蚀刻气体的反应性的测试结果的图。

图12和图13是示出示例5的蚀刻工艺之前和之后的膜的表面的图。

图14和图15是示出参考例3的蚀刻工艺之前和之后的膜的表面的图。

图16至图25示出了每个示例和比较例中制造的装饰元件的光反射层侧的SEM图像。

图27至图33分别示出了本公开的装饰元件的层叠结构。

图34至图51分别示出了可以被包括在本公开的用于装饰元件的膜中的图案层的形状。

具体实施方式