[发明专利]稀土磁体粉末的制造方法

说明书

提供一种能够得到高磁特性的稀土磁体粉末的制造方法。本发明为一种稀土磁体粉末的制造方法，具有：歧化工序，其中，使磁体原料吸氢而发生歧化反应，所述磁体原料是将包含稀土元素(称为“R”)、硼(B)和过渡元素(称为“TM”)的铸造合金暴露于350℃～550℃的氢气气氛中而得到的；和再结合工序，其中，从该歧化工序后的磁体原料中脱氢而发生再结合反应。铸造合金暴露于的氢气气氛的氢气分压没有限制，例如可以是1kPa～250kPa。铸造合金优选包含在暴露于氢气气氛之前预先进行了固溶处理的铸锭。通过使该氢气气氛的温度(氢破碎温度)在预定范围内，裂纹主要在晶界相中产生，主相的裂纹得到抑制。这在HDDR后也得到反映，认为得到了高磁特性的磁体粉末。

技术领域

本发明涉及用于粘结磁体等的稀土磁体粉末的制造方法。

背景技术

用粘合剂树脂将稀土磁体粉末固结而得的粘结磁体由于形状自由度优异、发挥高磁特性，因此多用于希望节能、减重等的电气化产品、汽车等的各种电磁设备。为了进一步扩大利用粘结磁体，希望提高稀土磁体粉末的磁特性。因此，提出了各种有关在稀土磁体粉末的制造过程中进行的氢处理的方案，在下述专利文献中有相关的记载。

需要说明的是，氢处理主要包括利用吸氢的歧化反应(Hydrogenation-Disproportionation/也简称为“HD反应”)和利用脱氢的再结合反应(Desorption-Recombination/简称为“DR反应”)。将HD反应和DR反应合并简称为“HDDR反应”，将该氢处理称为“HDDR(处理)”。顺便说明，在本说明书中所说的HDDR中，只要没有特别说明，则也包括作为改良型的d-HDDR(dynamic-Hydrogenation-Disproportionation-Desorption-Recombination)等。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特许第3871219号公报

专利文献2：日本特开2008-127648号公报

专利文献3：日本特开2008-305908号公报

发明内容

发明所要解决的课题

在专利文献1中记载了如下主题：通过颚式破碎机将铸块进行机械粉碎而得到平均粒径为10mm以下的磁体原料，对所述磁体原料实施具有低温氢化工序(室温×100kPa)、高温氢化工序、组织稳定化工序和受控排气工序的d-HDDR，由此得到高磁特性的稀土各向异性磁体粉末。

在专利文献2中记载了如下主题：对储氢(150℃×250kPa)的原料合金进行在其升温后引入氢气而使HD反应缓慢进行的HDDR处理，由此能够得到高磁特性的稀土各向异性磁体粉末。

需要说明的是，在专利文献3中记载了将原料合金进行氢粉碎(约300℃×130kPa)的主题。但是，专利文献3以烧结磁体为对象，不以粘结磁体为对象。

本发明是在这样的情况下完成的，目的在于提供一种通过与以往不同的方法能够得到适合于粘结磁体的高磁特性的稀土磁体粉末的制造方法。

用于解决课题的手段

本发明人为了解决该课题而进行了深入研究，结果新发现了，通过对在预定条件下将铸造合金进行氢处理(氢破碎)而得到的磁体原料实施HDDR(包括d-HDDR)，能够得到比以往高的磁特性的稀土磁体粉末。通过进一步发展该成果，完成了此后所述的本发明。

《稀土磁体粉末的制造方法》