[发明专利]具有抗腐蚀涂层的金属丝以及用于涂覆金属丝的设备和方法

权利要求书

1.一种用于通过等离子体沉积连续地涂覆丝的设备，所述设备包括至少一个等离子体沉积室(14)，所述至少一个等离子体沉积室具有气密的入口(16)和气密的出口(18)，所述气密的入口和气密的出口能够在丝(12)穿过它们时在等离子体沉积室(14)内维持减压，所述丝被从气密的入口(16)引入并且行进通过等离子体沉积室(14)直至气密的出口(18)，在等离子体沉积室(14)中设置等离子体射线(32)的至少一个发生器(30)，用于在丝(12)的处于气密的入口(16)与气密的出口(18)之间的部分中将目标材料(34)沉积在丝的外表面上，设置了传输系统(40)以便逐步地将丝(12)拉动通过等离子体沉积室(14)。

2.根据前一权利要求所述的设备，包括在等离子体沉积室(14)上游的至少一个减压室(20a，20b，20c)，以减小环境压力与等离子体沉积室(14)的减压之间的压力差。

3.根据前一权利要求所述的设备，其特征在于，丝(12)穿过每个减压室(20a，20b，20c)，所述丝被通过相应的气密的入口(22a，22b，22c)逐步地引导至每个减压室中。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，包括在等离子体沉积室(14)的下游的至少一个加压室(24a，24b，24c)，以减小等离子体沉积室(14)的减压与环境压力之间的压力差。

5.根据前述权利要求4所述的设备，其特征在于，丝(12)穿过每个加压室(24a，24b，24c)，所述丝被经由相应的气密的出口(26a，26b，26c)逐步地从每个加压室排出。

6.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，振荡系统容许丝(12)在其穿过等离子体沉积室(14)期间围绕所述丝的纵向轴线振荡。

7.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，其特征在于，振荡系统容许等离子体射线的所述至少一个发生器(30)在丝(12)穿过等离子体沉积室(14)期间围绕所述丝的纵向轴线振荡。

8.根据前述权利要求中的任一项所述的设备，包括等离子体射线的三个发生器(30)，所述三个发生器在等离子体沉积室(14)中围绕丝(12)的纵向轴线径向间隔120°地布置。

9.一种用于通过等离子体沉积涂覆丝的方法，所述方法包括步骤：

-从能够在等离子体射线室(14)内维持减压的气密的入口(16)至气密的出口(18)将丝(12)供应于至少一个等离子体沉积室(14)内，通过传输系统(40)将丝(12)逐步地拉动通过等离子体沉积室(14)，

-致动等离子体射线室(14)中的等离子体射线(32)的至少一个发生器(30)，用以在丝(12)的位于气密的入口(16)与气密的出口(18)之间的部分中将目标材料(34)沉积在所述丝的外表面上。

10.根据前述权利要求9所述的方法，其特征在于，使丝(12)和/或等离子体射线(32)的所述至少一个发生器(30)在目标材料沉积于丝(12)的外表面上期间围绕丝(12)的纵向轴线振荡。

11.一种金属丝，所述金属丝被涂覆通过等离子体沉积方法获得的保护层。

12.根据权利要求11所述的金属丝，其特征在于，等离子体沉积方法是脉冲等离子体扩散(PPD)方法。

13.根据权利要求11或权利要求12所述的金属丝，其特征在于，等离子体沉积方法包括权利要求9或权利要求10所述的步骤。

14.根据权利要求11至13中的任一项所述的金属丝，其特征在于，所述金属丝在根据权利要求1至8中的任一项所述的设备中获得。