[发明专利]用于流体的磁处理的装置

权利要求书

1.一种用于流体的磁处理的装置(50)，所述装置包括：

壳体(6)，所述壳体包括底壁(61)、顶壁(62)和侧壁(60)，所述侧壁围绕所述壳体的所述底壁(61)和所述顶壁(62)的圆周延伸，其中，所述壳体(6)具有中心线(40)，所述中心线经过所述底壁(61)的中心和所述顶壁(62)的中心的中心；

至少一个入口开口(2、3)和至少一个出口开口(4)，所述至少一个入口开口和所述至少一个出口开口形成在所述壳体(6)的至少一个壁(60、61、62)中；

至少一个磁体(8、9、10、21)，所述至少一个磁体连接到所述壳体(6)，其中，所述磁体的磁场至少部分地侵入所述壳体(6)中；

一个或多个入口管(30)，所述一个或多个入口管连接到所述一个或多个入口开口(2、3)；

其特征在于，

所述一个或多个入口管(30)中的至少一个在所述入口开口的附近大致与所述壳体(6)的所述侧壁(60)相切。

2.根据权利要求1所述的装置(50)，其特征在于，所述磁体中的至少一个是永磁体。

3.根据权利要求1所述的装置(50)，其特征在于，所述入口开口(2、3)在所述壳体(6)的所述侧壁(60)中形成。

4.根据权利要求3所述的装置(50)，其特征在于，所述入口开口(2)在所述壳体的所述底壁(61)附近、在所述壳体的所述侧壁(60)中形成。

5.根据权利要求4所述的装置(50)，其特征在于，圆锥体(1)布置在所述壳体内部、在所述底壁(61)附近或者与所述壳体(6)的所述底壁(61)接触。

6.根据权利要求5所述的装置(50)，其特征在于，所述圆锥体(1)由永磁体形成，或者所述圆锥体(1)由可磁化材料制成并且放置在包括至少一个磁体(21)的基本磁体(5)上。

7.根据前述权利要求中任一项所述的装置(50)，其特征在于，所述壳体(6)由可磁化材料制成，优选地由软铁制成。

8.根据前述权利要求中任一项所述的装置(50)，其特征在于，所述壳体(6)在所述中心线(40)的方向上由至少两个构件(51、52)形成，所述至少两个构件包括底构件(51)和顶构件(52)，其中，

所述底构件(51)包括：底壁(61)；侧壁(60)，所述侧壁固定到所述底壁(61)并且围绕所述底壁(61)的圆周延伸；在所述侧壁(60)中形成的至少一个入口开口(2、3)，其中，所述入口开口(2、3)中的至少一个在所述底壁(61)的附近；圆锥体(1)，所述圆锥体具有与所述中心线(40)重合的对称轴线；至少一个磁体(8)和位于由所述侧壁(60)的顶边缘限定的平面中的至少一个出口表面(11)；

所述顶构件(52)包括侧壁(60)、顶壁(62)以及在所述顶壁中形成的出口开口(4)。

9.根据权利要求8所述的装置(50)，其特征在于，所述顶构件(52)还包括一个或多个磁体(8)以及一个或多个入口开口(2、3)。

10.根据权利要求8所述的装置(50)，其特征在于，至少一个中间构件(53)布置在所述底构件(51)与所述顶构件(52)之间，所述中间构件包括侧壁(60)、在所述侧壁(60)的底部处的入口表面(12)、在所述侧壁(60)的顶部处的出口表面(11)、以及至少一个永磁体(8)。

11.根据权利要求10所述的装置(50)，其特征在于，所述中间构件(53)还包括在所述侧壁(60)中形成的一个或多个入口开口(2、3)。

12.根据权利要求8所述的装置(50)，其特征在于，所述底构件(51)的顶端部和所述顶构件(52)的底端部彼此可释放地连接，并且在连接处密封，使得流体能够只通过所述出口表面和所述入口表面在所述底构件和所述顶构件之间流动。