[发明专利]药液、药液收容体

说明书

本发明提供一种缺陷抑制性优异的药液。并且，提供一种含有上述药液的药液收容体。本发明的药液含有选自由除了烷烃及烯烃以外的化合物、以及癸烷及十一烷组成的组中的1种以上的有机溶剂，该药液还含有选自由碳原子数12～50的烷烃及碳原子数12～50的烯烃组成的组中的1种以上的有机成分，相对于药液的总质量，有机成分的含量为0.10～1,000,000质量ppt。

技术领域

本发明涉及一种药液及药液收容体。

背景技术

通过包含光刻的配线形成工序制造半导体器件时，作为预湿液、抗蚀剂液(抗蚀剂组合物)、显影液、冲洗液、剥离液、化学机械抛光(CMP：Chemical Mechanical Polishing)浆料及CMP后的清洗液等或作为这些的稀释液，可使用含有水和/或有机溶剂的药液。

近年来，通过光刻技术的进步，图案的微细化不断发展。作为图案的微细化的方法，可使用将曝光光源短波长化的方法，尝试作为曝光光源使用了波长进一步短的EUV(极紫外线)等来代替以往使用的紫外线、KrF准分子激光及ArF准分子激光等的图案形成。

随着所形成的图案的微细化，对于该工序中所使用的上述药液要求进一步的缺陷抑制性。

作为用于以往的图案形成的药液，在专利文献1中公开了一种“在图案形成技术中，能够减少粒子的产生的、化学增幅型抗蚀剂膜的图案形成用有机系处理液的制造方法([0010]段)”。

以往技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2015-084122号公报

发明内容

发明要解决的技术课题

本发明人等对通过上述制造方法制造的图案形成用有机系处理液(药液)进行研究的结果，发现了缺陷抑制性有改善的余地。

因此，本发明的课题在于提供一种缺陷抑制性优异的药液。并且，本发明的课题在于提供一种含有上述药液的药液收容体。

用于解决技术课题的手段

为了解决上述问题，本发明人等进行深入研究的结果，发现了通过以下结构能够解决上述问题。

〔1〕

一种药液，其含有选自由除了烷烃及烯烃以外的化合物、以及癸烷及十一烷组成的组中的1种以上的有机溶剂，

该药液还含有选自由碳原子数12～50的烷烃及碳原子数12～50的烯烃组成的组中的1种以上的有机成分，

相对于上述药液的总质量，上述有机成分的含量为0.10～1,000,000质量ppt。

〔2〕

根据〔1〕所述的药液，其含有2种以上的上述有机成分。

〔3〕

根据〔1〕或〔2〕所述的药液，其含有1种以上的上述碳原子数12～50的烷烃及1种以上的上述碳原子数12～50的烯烃这两者。

〔4〕

根据〔1〕至〔3〕中任一项所述的药液，其中上述有机溶剂的对二十碳烯的汉森溶解度参数的距离为3～20MPa^0.5。

〔5〕

根据〔1〕至〔3〕中任一项所述的药液，其中相对于前述药液的总质量，含有20～80质量％的对二十碳烯的汉森溶解度参数的距离为3～20MPa^0.5的前述有机溶剂，

相对于前述药液的总质量，含有20～80质量％的对二十碳烯的汉森溶解度参数的距离不为3～20MPa^0.5的前述有机溶剂。