[发明专利]用于制备表面氧化的炭黑纳米颗粒的方法及包含表面氧化的炭黑纳米颗粒的分散体

权利要求书

1.一种用于炭黑的表面氧化的方法，所述方法包括在逆流混合反应器中，

将在有机溶剂或其他溶剂中的所述炭黑的溶液或浆液与包含用于所述炭黑的表面氧化的试剂的液体载体连续地混合，由此获得所述炭黑与所述试剂的反应以及表面氧化的炭黑作为纳米颗粒在所述液体载体和溶剂混合物中的分散体的形成。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括从所述分散体中除去当存在时的未反应的试剂和/或副产物。

3.根据权利要求1所述的方法，还包括浓缩所述分散体。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述方法提供具有在1nm和500nm之间的平均直径的表面氧化的炭黑的纳米颗粒的分散体。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述方法提供具有在10nm和300nm之间的平均直径的表面氧化的炭黑的纳米颗粒的分散体。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述方法提供具有单峰多分散性的表面氧化的炭黑的纳米颗粒分散体。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述方法提供具有在0.1和3.0之间的动态光散射(DLS)多分散性指数的表面氧化的炭黑的纳米颗粒分散体。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述方法提供具有在0.1和2.0之间的动态光散射(DLS)多分散性指数的表面氧化的炭黑的纳米颗粒分散体。

9.根据权利要求7所述的方法，其中所述方法提供具有在0.1和1.0之间的动态光散射(DLS)多分散性指数的表面氧化的炭黑的纳米颗粒分散体。

10.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述方法提供表面氧化的炭黑的纳米颗粒分散体，其中所述纳米颗粒具有的挥发物含量高于通过相应的炭黑的间歇氧化产生的表面氧化的炭黑的纳米颗粒的挥发物含量。

11.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述方法提供具有在5wt/wt％和50wt/wt％之间的纳米颗粒浓度的表面氧化的炭黑的纳米颗粒分散体。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述方法提供具有在5wt/wt％和30wt/wt％之间的纳米颗粒浓度的表面氧化的炭黑的纳米颗粒分散体。

13.根据权利要求11所述的方法，其中所述方法提供具有在5wt/wt％和20wt/wt％之间的纳米颗粒浓度的表面氧化的炭黑的纳米颗粒分散体。

14.根据权利要求11所述的方法，其中所述方法提供具有在5wt/wt％和10wt/wt％之间的纳米颗粒浓度的表面氧化的炭黑的纳米颗粒分散体。

15.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述方法提供具有小于63.9mV的ζ电位量值的表面氧化的炭黑在去离子水中的纳米颗粒分散体。

16.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述方法提供不含润湿剂和/或分散剂的表面氧化的炭黑的纳米颗粒分散体。

17.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述方法在20℃和120℃之间的反应器温度进行。

18.根据权利要求17所述的方法，其中所述方法在20℃和80℃之间的反应器温度进行。

19.根据权利要求17所述的方法，其中所述方法在20℃和60℃之间的反应器温度进行。