[发明专利]具有校正特征的光均质化元件在审
| 申请号: | 201980043771.X | 申请日: | 2019-06-14 |
| 公开(公告)号: | CN112352203A | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
| 发明(设计)人: | J·M·科布;P·F·米开罗斯基;D·M·斯塔洛夫 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B27/09 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 汪骏飞;侯颖媖 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 校正 特征 光均质化 元件 | ||
1.一种光均质化元件,包括:
透镜阵列,被配置为透射工作波长的光,所述透镜阵列包括多个小透镜,所述多个小透镜包括第一小透镜,所述第一小透镜具有第一孔径,所述第一孔径具有带有由第一校正特征限定的经校正部分的表面,所述第一校正特征减小所述工作波长穿过所述第一小透镜的透射率。
2.根据权利要求1所述的光均质化元件,其特征在于,所述工作波长是紫外线波长。
3.根据权利要求1或2所述的光均质化元件,其特征在于,所述多个小透镜中的每个小透镜具有正方形横截面。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的光均质化元件,其特征在于,所述第一孔径的所述表面是有倍率的。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的光均质化元件,其特征在于,所述第一校正特征部分覆盖所述第一孔径的所述表面。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的光均质化元件,其特征在于,所述第一校正特征与所述第一孔径的所述表面间隔开。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的光均质化元件,其特征在于,所述第一校正特征是掩模。
8.根据权利要求7所述的光均质化元件,其特征在于,所述掩模包括不锈钢或铝。
9.根据权利要求7或8所述的光均质化元件,其特征在于,所述校正部分包括所述掩模的阴影。
10.根据权利要求7-9中任一项所述的光均质化元件,其特征在于,所述掩模是经穿孔的。
11.根据权利要求1-7中任一项所述的光均质化元件,其特征在于,所述第一校正特征是半透明的。
12.根据权利要求1-7中任一项所述的光均质化元件,其特征在于,所述第一校正特征包括涂覆有干涉涂层的透明基板。
13.根据权利要求1-7中任一项所述的光均质化元件,其特征在于,第一经校正小透镜具有第二孔径,所述第二孔径具有未校正表面。
14.根据权利要求1-13中任一项所述的光均质化元件,其特征在于,所述多个小透镜进一步包括第二小透镜,所述第二小透镜具有第二孔径,所述第二孔径具有带有由第二校正特征限定的经校正部分的表面,所述第二校正特征减小所述工作波长穿过所述第二小透镜的透射率。
15.根据权利要求14所述的光均质化元件,其特征在于,所述第二校正特征与所述第一校正特征互补。
16.根据权利要求1-15中任一项所述的光均质化元件,其特征在于,所述工作波长穿过所述第一孔径的所述经校正部分的透射率为0%。
17.根据权利要求1-16中任一项所述的光均质化元件,其特征在于,所述第一孔径进一步包括未校正部分。
18.根据权利要求17所述的光均质化元件,其特征在于,所述工作波长穿过所述经校正部分的透射率小于所述工作波长穿过所述未校正部分的透射率的10%。
19.一种光照明系统,包括:
光源;
第一透镜阵列,可操作地耦合至所述光源,所述第一透镜阵列被配置成透射工作波长的光,所述第一透镜阵列包括多个小透镜,所述多个小透镜包括第一小透镜,所述第一小透镜具有第一孔径,所述第一孔径具有带有由第一校正特征限定的经校正部分的表面,所述第一校正特征减小所述工作波长穿过所述第一小透镜的透射率。
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