[发明专利]光导光学元件(LOE)的板之间折射率不均匀性的测量技术在审

专利信息
申请号: 201980041785.8 申请日: 2019-06-20
公开(公告)号: CN112313499A 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 乔纳森·基尔柏格;尤瓦尔·鲁宾;迈克尔·阿德尔 申请(专利权)人: 鲁姆斯有限公司
主分类号: G01N21/45 分类号: G01N21/45;G01M11/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 董敏;李新燕
地址: 以色列耐*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 元件 loe 之间 折射率 不均匀 测量 技术
【权利要求书】:

1.一种用于测量折射率不均匀性的方法,包括以下步骤:

(a)将投射光(R)投射到光导(20)的前表面(26A)上,所述光导(20)包括:

(i)彼此平行的第一对外表面,所述外表面包括所述前表面(26A)和后表面(26),以及

(ii)一组涂覆板(422),所述一组板(422):

(A)彼此平行,

(B)在所述第一对外表面之间,以及

(C)相对于所述第一对外表面成非平行角度,以及

(iii)每个所述板(422)具有对应的折射率(n),以及

(b)捕获干涉图案的干涉图图像(1200)以测量所述板(422)之间的折射率不均匀性,所述干涉图案在折射/反射光线(R’)与外部反射光(Re’)之间,

(i)所述折射/反射光线(R’)是所述投射光(R)穿过所述光导(20),在所述光导(20)内部反射,然后经由所述前表面(26A)离开所述光导(20)的结果,以及

(ii)所述外部反射光(Re’)是所述投射光(R)从所述前表面(26A)反射的结果。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述投射选自包括以下的组:

(a)相对于所述前表面(26A)成倾斜角度,以及

(b)相对于所述前表面(26A)垂直。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述干涉图图像(1200)与所述板(422)的所述折射率(n)之间的折射率不均匀性对应。

4.根据权利要求1所述的方法,还包括:确定所述条纹的一个或更多个部分与所述条纹的另一个或更多个部分之间的偏差,每个所述部分与所述板中的一个或更多个对应,所述偏差与所述板的所述折射率之间的折射率差对应。

5.一种用于确定折射率不均匀性的方法,包括以下步骤:

(a)提供干涉图,所述干涉图包括一个或更多个条纹,所述干涉图通过以下操作生成:

(i)将投射光(R)投射到光导(20)的前表面(26A)上,所述光导(20)包括:

(A)彼此平行的第一对外表面,所述外表面包括所述前表面(26A)和后表面(26),以及

(B)一组板(422),所述一组板(422):

(I)彼此平行,

(II)在所述第一对外表面之间,以及

(III)相对于所述第一对外表面成非平行角度,以及

(C)每个所述板(422)具有对应的折射率(n),以及

(ii)捕获干涉图案的干涉图图像(1200)以测量所述板(422)之间的折射率不均匀性,所述干涉图案在折射/反射光线(R’)与外部反射光(Re’)之间,

(A)所述折射/反射光线(R’)是所述投射光(R)穿过所述光导(20),在所述光导(20)内部反射,然后经由所述前表面(26A)离开所述光导(20)的结果,以及

(B)所述外部反射光(Re’)是所述投射光(R)从所述前表面(26A)反射的结果,以及

(b)确定所述条纹的一个或更多个部分与所述条纹的另一个或更多个部分之间的偏差,每个所述部分与所述板中的一个或更多个对应,所述偏差与所述板的所述折射率之间的折射率不均匀性对应。

6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述条纹的每个所述部分与所述板中的一个对应。

7.根据权利要求5所述的方法,其中,所述偏差是相邻的所述板之间的。

8.根据权利要求5所述的方法,其中,所述偏差是跨多个所述板的。

9.根据权利要求5所述的方法,其中,所述偏差是跨所有所述板的。

10.根据权利要求5所述的方法,其中,所述确定偏差包括确定所述干涉图中有多少条纹跳跃。

11.根据权利要求5所述的方法,还包括基于所述偏差计算通过/未通过度量的步骤。

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