[发明专利]光致抗蚀剂组合物、用于制造光致抗蚀剂涂层、经蚀刻的光致抗蚀剂涂层和经蚀刻的含硅层的方法以及制造使用其的器件的方法

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂组合物，其包含：

(A)一种或多种在酸的存在下溶解度发生变化的聚合物，

(B)一种或多种光致产酸剂，

(C)一种或多种包含单元EO和单元PO的化合物，和

(D)一种或多种溶剂，

其中，单元EO由下式(1)表示，

而单元PO由下式(2)表示，

2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中(C)一种或多种化合物是增塑剂，并且

优选地，该(C)化合物包含从由无规共聚物、嵌段共聚物、交替共聚物、接枝共聚物和这些中任意的组合构成的群组中选出的至少一种共聚物。

3.根据权利要求1和2中一项或多项所述的光致抗蚀剂组合物，其中该(C)化合物包含：同时包含单元EO和单元PO的共聚物，或者(C)化合物是多种化合物，其中至少一种化合物包含单元EO且至少一种化合物包含单元PO。

4.根据权利要求1至3中一项或多项所述的光致抗蚀剂组合物，其中，该(A)聚合物包含由下式(3)表示的单元1，由下式(4)表示的单元2，和/或由下式(5)表示的单元3，

并且优选该(A)聚合物的重均分子量为3,000至100,000：

R₃各自独立地为C_1-10烷基或C_1-10烷氧基，且n3为0、1、2、3或4；

R₄各自独立地为C_1-10烷基或C_1-10烷氧基，其中-CH₂-能被-O-取代，且n4为0、1、2、3、4或5；

R₅为氢或C_1-10烷基，且R₆为C_1-20烷基，其可选地形成烃环。

5.根据权利要求1至4中一项或多项所述的光致抗蚀剂组合物，其中该(C)化合物中[(单元EO)/(单元PO)]的分子比为10/90至90/10。

6.根据权利要求1至5中一项或多项所述的光致抗蚀剂组合物，其中该(C)化合物的重均分子量(Mw)为1,000至50,000。

7.根据权利要求1至6中一项或多项所述的光致抗蚀剂组合物，(D)溶剂包含从由如下构成的群组中选出的至少一种：脂族烃溶剂，芳族烃溶剂，一元醇溶剂，多元醇溶剂，酮溶剂，醚溶剂，酯溶剂，含氮溶剂，以及含硫溶剂。

8.根据权利要求1至7中一项或多项所述的光致抗蚀剂组合物，其中该(B)光致产酸剂包含从由如下构成的群组中选出的至少一种：磺酸衍生物，重氮甲烷化合物，鎓盐，砜酰亚胺化合物，二磺酸化合物，硝基苄基化合物，苯偶姻甲苯磺酸盐化合物，铁芳烃络合化合物，含卤素的三嗪化合物，苯乙酮衍生物，以及含氰基肟磺酸酯。

9.根据权利要求1至8中一项或多项所述的光致抗蚀剂组合物，其中该(A)聚合物与该光致抗蚀剂组合物总质量的质量比为5至50质量％，

优选该(B)光致产酸剂与该(A)聚合物的质量的质量比为0.10～8质量％，且

优选该(C)化合物与该(A)聚合物的质量的质量比为0.1～50质量％(更优选为3～50质量％，进一步优选为3～30质量％，进一步优选为4～20质量％，甚至优选5～17质量％，特别优选8～17质量％，进一步特别优选12～17质量％)。

10.根据权利要求1至9中一项或多项所述的光致抗蚀剂组合物，其还包含从由如下构成的群组中选出的至少一种添加剂：淬灭剂，表面活性剂，染料，对比度增强剂，酸，碱，自由基产生剂，以及用于增强与衬底的粘附力的助剂。