[发明专利]喷嘴头和设备

权利要求书

1.一种用于根据原子层沉积原理使基材(100)的表面(101)经受至少两种前驱体(A、B)的交替的表面反应的喷嘴头(2)，所述喷嘴头(2)包括：

-输出面(3)，经由所述输出面(3)朝向所述基材(100)的所述表面(101)供应气体并且从所述基材(100)的所述表面(101)排出气体；

-至少一个气体供应喷嘴(4、12、16、20、22、24)，布置成朝向所述基材(100)的所述表面(101)供应气体；和

-至少一个排出喷嘴(6、7、9、10、13、14)，布置成经由所述输出面(3)从所述基材(100)的所述表面(101)排出气体，

所述喷嘴头(2)在所述输出面(3)上按以下顺序包括有：第一区域端部喷嘴(8、10、12、13、15)、气体供应喷嘴(4、12、16、20、22、24)和第二区域端部喷嘴(6、7、9)，以上喷嘴配置在所述输出面(3)上重复一次或多次，

所述第一区域端部喷嘴(8、10、12、13、15)是排出喷嘴(10、13)或吹扫气体喷嘴(12、13)，

所述第二区域端部喷嘴(6、7、9)是排出喷嘴，

所述气体供应喷嘴(4、12、16、20、22、24)是前驱体喷嘴(4、10、20、22)，并且

所述第一区域端部喷嘴(8、10、12、13、15)布置成与所述气体供应喷嘴(4、12、16、20、22、24)相距第一距离(L_Y)，所述第二区域端部喷嘴(6、7、9)布置成与所述气体供应喷嘴(4、12、16、20、22、24)相距第二距离(L_X)，

其特征在于，所述第二距离(L_X)是所述第一距离(L_Y)的至少1.5倍。

2.根据权利要求1所述的喷嘴头(2)，其特征在于，所述喷嘴头包括：

-前驱体区域(Z_A、Z_B)，所述前驱体区域(Z_A、Z_B)设置在所述第一区域端部喷嘴(8、10、12、13、15)和所述第二区域端部喷嘴(6、7、9)之间，使得所述气体供应喷嘴(4、12、16、20、22、24)是布置成朝向所述基材(100)的所述表面(101)供应前驱体(A、B)的前驱体喷嘴(4、10、20、22)；或

-第一前驱体区域(Z_A)和第二前驱体区域(Z_B)，所述第一前驱体区域(Z_A)设置在所述第一区域端部喷嘴(8、10、12、13、15)和所述第二区域端部喷嘴(6、7、9)之间，使得所述气体供应喷嘴(4、12、16、20、22、24)是布置成朝向所述基材(100)的所述表面(101)供应第一前驱体(A)的第一前驱体喷嘴(4、10、20)，所述第二前驱体区域(Z_B)设置在所述第一区域端部喷嘴(8、10、12、13、15)和所述第二区域端部喷嘴(6、7、9)之间，使得所述气体供应喷嘴(4、12、16、20、22、24)是布置成朝向所述基材(100)的所述表面(101)供应第二前驱体(B)的第二前驱体喷嘴(4、10、22)；或

-吹扫气体区域(Z_P)，所述吹扫气体区域(Z_P)设置在所述第一区域端部喷嘴(8、10、12、13、15)和所述第二区域端部喷嘴(6、7、9)之间，使得所述气体供应喷嘴(4、12、16、20、22、24)是布置成朝向所述基材(100)的所述表面(101)供应吹扫气体(P)的吹扫气体喷嘴(4、24)；或

-第一前驱体区域(Z_A)、第二前驱体区域(Z_B)和吹扫气体区域(Z_P)，所述第一前驱体区域(Z_A)设置在所述第一区域端部喷嘴(8、10、12、13、15)和所述第二区域端部喷嘴(6、7、9)之间，使得所述气体供应喷嘴(4、12、16、20、22、24)是布置成朝向所述基材(100)的所述表面(101)供应第一前驱体(A)的第一前驱体喷嘴(4、10、20)，所述第二前驱体区域(Z_B)设置在所述第一区域端部喷嘴(8、10、12、13、15)和所述第二区域端部喷嘴(6、7、9)之间，使得所述气体供应喷嘴(4、12、16、20、22、24)是布置成朝向所述基材(100)的所述表面(101)供应第二前驱体(B)的第二前驱体喷嘴(4、10、22)，所述吹扫气体区域(Z_P)设置在所述第一区域端部喷嘴(8、10、12、13、15)和所述第二区域端部喷嘴(6、7、9)之间，使得所述气体供应喷嘴(4、12、16、20、22、24)是布置成朝向所述基材(100)的所述表面(101)供应吹扫气体(P)的吹扫气体喷嘴(4、24)。