[发明专利]BCL6抑制剂

权利要求书

1.一种具有式(I)的化合物，或其药学上可接受的盐或溶剂化物，如下所示：

其中：

X₁选自N或CR^a，其中R^a选自氢、(1-2C)烷基、卤素、(1-2C)烷氧基、(1-2C)卤代烷基、(1-2C)卤代烷氧基、氰基、或NR^bR^c，其中R^b和R^c各自独立地选自氢或(1-2C)烷基；

X₂选自N、CH、CF、CCl、或C-CH₃；

R¹选自氢或具有下式的基团：

-L-Y-Z

其中：

L不存在，或是(1-3C)亚烷基；

Y不存在，或是O、C(O)、C(O)O、或C(O)N(R^e)，其中R^e选自氢或(1-4C)烷基；并且

Z是氢、(1-6C)烷基、芳基、(3-6C)环烷基、(3-6C)环烯基、5或6元杂芳基、或4至7元杂环基；其中Z进一步任选地被一个或多个取代基基团取代，这些取代基基团独立地选自氧代、(1-2C)烷基、卤基、(1-2C)卤代烷基、(1-2C)卤代烷氧基、(1-2C)氨基烷基、氰基、NR^gR^h、或OR^g；其中R^g和R^h各自独立地选自氢或(1-4C)烷基；

R²选自具有下文所示的式A的基团：

其中：

表示附接点；

X_a选自N、CH、或CF；

X_b选自N或CR^x1，其中R^x1选自氢、氟、氯、溴、(1-2C)烷基、(1-2C)烷氧基、氰基、乙炔基、CH₂F、CF₂H、或CF₃；

R⁶选自氢、氟、氯、溴、(1-2C)烷基、(1-2C)烷氧基、氰基、乙炔基、CH₂F、CF₂H、或CF₃；

R⁷选自氢、卤基、(1-4C)烷基、(1-4C)烷氧基、(1-4C)卤代烷基、(1-4C)卤代烷氧基、氰基、硝基、(2-4C)烯基、(2-4C)炔基、或具有下式的基团：

-Y₃-Z₃

其中：

Y₃不存在，或是O、S、SO、SO₂、N(R^j)(CR^jR^k)_q1(其中q₁是0、1、或2)、C(O)、C(O)O、OC(O)、C(O)N(R^j)、N(R^j)C(O)、N(R^j)C(O)N(R^k)、N(R^j)C(O)O、OC(O)N(R^j)、S(O)₂N(R^j)、或N(R^j)SO₂，其中R^j和R^k各自独立地选自氢或(1-4C)烷基；并且

Z₃是氢、(1-6C)烷基、芳基、(3-6C)环烷基、(2-4C)烯基、(2-4C)炔基、(3-6C)环烯基、杂芳基、或4至12元杂环基；其中Z₃进一步任选地被一个或多个取代基基团取代，这些取代基基团独立地选自(1-4C)烷基、(3-6C)环烷基、卤基、氧代、(1-4C)卤代烷基、(1-4C)卤代烷氧基、(1-4C)烷氧基烷基、氰基、CO₂H、SO₂NH₂、C(O)NR^lR^m、NR^lR^m、OR^l、或SR^l，其中R^l和R^m各自独立地选自氢、(1-4C)烷基、或(3-6C)环烷基；或Z³进一步任选地被具有下式的基团取代：

-L_Z-W_Z

其中：

L_Z是任选地被一个或多个取代基取代的(1-5C)亚烷基，这些取代基选自(1-2C)烷基或氧代；并且

W_Z是卤基、(1-4C)卤代烷基、(1-4C)卤代烷氧基、氰基、羟基、(1-4C)烷氧基、C(O)R^xa、COOR^xa、C(O)NR^xaR^xb、或NR^xaR^xb，其中R^xa和R^xb各自独立地选自氢或(1-4C)烷基；

R³⁰选自(1-4C)烷基、(3-6C)环烷基、(1-4C)卤代烷基、或氰基，其中每个(1-4C)烷基和/或(3-6C)环烷基取代基进一步任选地被一个或多个取代基取代，这些取代基选自(1-4C)烷基、(3-6C)环烷基、羟基、(1-2C)烷氧基、NR^uR^v、(1-2C)氨基烷基、或卤基，其中R^u和R^v独立地选自氢或(1-2C)烷基；

R³¹选自氢、(1-4C)烷基、氰基、(1-4C)卤代烷基、或具有下式的基团：

Y₅-L₅-Z₅

其中：

Y₅不存在，或选自C(O)O或C(O)N(R^w)，其中R^w选自氢或(1-2C)烷基；

L₅不存在，或是(1-2C)亚烷基；并且

Z₅是氢、(1-6C)烷基、芳基、(3-6C)环烷基、5或6元杂芳基、或4至6元杂环基；其中Z₅任选地被一个或多个取代基取代，这些取代基选自(1-2C)烷基、卤基、(1-2C)卤代烷基、(1-2C)卤代烷氧基、(1-2C)烷氧基、NH₂、氰基、硝基、或羟基；或者

R³⁰和R³¹连接，使得它们与它们所附接的碳原子一起形成4-6元碳环或杂环；并且

环A是6元或7元杂环，除了取代基基团R³⁰和R³¹，该杂环进一步任选地被一个或多个取代基基团取代，这些取代基基团选自氧代、(1-2C)烷基、环丙基、螺环丙基、卤基、(1-2C)卤代烷基、(1-2C)卤代烷氧基、(1-2C)烷氧基、NH₂、氰基、或羟基。