[发明专利]量测设备

权利要求书

1.一种量测工具，用于确定制作于衬底上的结构的感兴趣的参数，所述量测工具包括：

照射光学系统，用于利用照射辐射以一非零入射角照射所述结构；

检测光学系统，包括检测光学传感器和至少一个透镜，所述至少一个透镜用于捕获照射辐射的被所述结构散射的部分并朝向所述检测光学传感器透射所捕获的辐射，

其中所述照射光学系统和所述检测光学系统未共用光学元件。

2.根据权利要求1所述的量测工具，其中所述照射光学系统的光学轴线的至少一部分大体上平行于所述检测光学系统的光学轴线。

3.根据权利要求1或2所述的量测工具，其中所述照射光学系统的至少一部分从所述检测光学系统的径向范围径向向外地定位。

4.根据前述权利要求中任一项所述的量测工具，其中所述照射光学系统包括离散的多个光学路径，其中可选地，所述多个光学路径中的至少两个光学路径在径向上相反。

5.根据前述权利要求中任一项所述的量测工具，其中所述照射光学系统包括用于朝向所述结构反射照射辐射的至少一个反射镜。

6.根据直接或间接引用权利要求4的权利要求5所述的量测工具，在所述多个光学路径中的一个或更多个光学路径中包括至少一个反射镜。

7.根据权利要求5或6所述的量测工具，其中所述至少一个反射镜配置成通过所述检测光学系统的至少一个透镜和所述衬底之间的空间将所述照射辐射引导至所述结构上。

8.根据权利要求5-7中任一项所述的量测工具，其中所述至少一个反射镜配置成将具有在从200nm至2μm的范围内的多个波长的辐射引导至所述衬底上的大体上同一点。

9.根据权利要求5-8中任一项所述的量测工具，其中所述至少一个反射镜是椭圆反射镜或抛物面反射镜中的一个。

10.根据前述权利要求中任一项所述的量测工具，其中所述检测光学系统具有大于90％的总透射率。

11.根据前述权利要求中任一项所述的量测工具，其中所述检测光学系统包括以下中的一个或更多个：平凸透镜；非球面透镜；双球面透镜；双非球面透镜和长工作距离物镜。

12.根据前述权利要求中任一项所述的量测工具，还包括聚焦系统，所述聚焦系统包括：至少一个聚焦光学传感器，配置成接收从所述结构反射的零阶辐射；和计算成像处理器，配置成相应地确定所述检测光学系统的聚焦。

13.根据前述权利要求中任一项所述的量测工具，还包括偏振元件，所述偏振元件围绕所述检测光学系统的外部布置，并配置成与传播通过所述照射光学系统的辐射相互作用以使该辐射偏振。

14.根据直接或间接引用权利要求4的前述权利要求中任一项所述的量测工具，包括遮蔽系统，所述遮蔽系统定位在所述多个光学路径中的至少一个中，所述遮蔽系统能够在允许照射辐射通过的打开位置和阻挡照射辐射通过的关闭位置之间进行配置。

15.根据前述权利要求中任一项所述的量测工具，其中所述照射光学系统和检测光学系统具有小于衬底的场区域的覆盖区域。