[发明专利]极紫外光刻用工艺液体组合物及使用其的图案形成方法

权利要求书

1.一种工艺液体组合物，用于减少由极紫外光曝光光源所限定的包括聚羟基苯乙烯的光致抗蚀剂图案的坍塌，其特征在于，

所述工艺液体组合物包括：

0.0001至1重量％的HLB值为9至16的非离子表面活性剂；

0.0001至1重量％的碱性物质，所述碱性物质选自由四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵或其混合物所组成的组；及

98至99.9998重量％的水。

2.根据权利要求1所述的工艺液体组合物，其特征在于，

所述非离子表面活性剂为选自由聚氧乙烯烷基醚、聚氧丙烯烷基醚、聚氧乙烯氧丙烯烷基醚或其混合物所组成的组。

3.根据权利要求2所述的工艺液体组合物，其特征在于，

所述非离子表面活性剂为聚氧乙烯烷基醚。

4.根据权利要求1所述的工艺液体组合物，其特征在于，

所述非离子表面活性剂的HLB值为选自9至13。

5.根据权利要求4所述的工艺液体组合物，其特征在于，

所述碱性物质为四丁基氢氧化铵。

6.一种光致抗蚀剂图案形成方法，包括如下步骤：

(a)在半导体基板涂覆光致抗蚀剂而形成膜；

(b)曝光所述光致抗蚀剂的膜后进行显影而形成图案；及

(c)利用权利要求1至5中任一项的光刻用工艺液体组合物洗涤所述光致抗蚀剂图案。

7.根据权利要求6所述的光致抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述曝光光源为极紫外光。