[发明专利]使用指纹和演化分析的方法

权利要求书

1.一种确定针对被配置成处理和/或测量至少一个衬底的装置的控制方案的方法，所述方法包括：

获得指纹模型和演化模型，其中所述指纹模型基于针对由装置处理的至少一个衬底的处理参数的指纹数据，并且所述演化模型表示所述指纹数据随时间的变化；

分析所述指纹模型和所述演化模型；以及

a)使用所述分析来产生针对所述装置的采样控制方案，其中所述采样控制方案提供待在何处和何时对衬底进行测量的指示；和/或

b)使用所述分析来产生针对所述装置的处理控制方案，其中所述处理控制方案提供如何控制对所述衬底的所述处理的指示。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括处理至少一个衬底和根据所述采样控制方案对所述至少一个衬底进行测量，所述测量与所述至少一个衬底的所述处理参数相关。

3.根据权利要求2所述的方法，还包括：

使用对所述至少一个衬底的所述测量来更新所述指纹模型和/或所述演化模型；

分析经更新的指纹模型和/或经更新的演化模型，并且使用所述分析来产生针对所述装置的经更新的采样控制方案和/或处理控制方案。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述采样控制方案和/或处理控制方案考虑至少一个额外的因素，所述至少一个额外的因素包括用于对所述装置执行维护的预期时间尺度、与用以处理所述衬底的所述装置相关的情境数据、与所述装置的状态相关的测量数据、和/或由不同的量测工具进行的测量之间的已知关系。

5.根据权利要求1所述的方法，其中针对所述装置获得与多个处理参数相关的多个指纹模型和演化模型，并且其中针对所述多个处理参数中的不同处理参数来确定单独的采样控制方案和/或处理控制方案。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述指纹模型包括至少两个指纹子模型，每个指纹子模型与跨越所述衬底上的不同空间尺度的变化相关联。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述演化模型包括至少两个演化子模型，每个演化子模型与特定的指纹子模型相关联。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述采样控制方案和/或所述处理控制方案的产生是基于所述指纹子模型中的至少一个指纹子模型和/或所述演化子模型中的至少一个演化子模型。

9.根据权利要求1所述的方法，还包括分解所述指纹数据以产生至少一个分量数据的集合的步骤，其中所述指纹模型包括所述至少一个分量数据的集合，并且其中所述演化模型基于所述至少一个分量数据的集合随时间的变化。

10.根据权利要求9所述的方法，还包括：

变换所述至少一个分量数据的集合的所述演化模型；

识别针对经变换的演化模型的主频率；以及

确定所述至少一个分量数据的集合的相干时间，其中所述相干时间与所述主频率成反比。

11.根据权利要求10所述的方法，其中使用所述至少一个分量数据的集合的所述相干时间来产生所述采样控制方案和/或所述处理控制方案。

12.根据权利要求10所述的方法，其中比较所述至少一个分量数据的集合的所述主频率和/或相干时间与针对用以对衬底进行处理的多个装置的已知的处理参数信息，并且通过比较所述处理参数信息与所述主频率和/或相干时间，能够确定所述多个装置中的哪个装置对于针对所述衬底的处理参数的指纹做出贡献。

13.根据权利要求1所述的方法，其中所述采样控制方案包括多个特定于量测系统的采样控制方案，所述多个特定于量测系统的采样控制方案指示待在何处和何时由多个量测系统中的每个量测系统来对由所述装置处理的衬底进行测量。