[发明专利]确定结构特性的方法和量测设备

权利要求书

1.一种确定制造在衬底上的结构的特性的方法，包括：

利用第一照射辐射照射所述结构以产生第一散射辐射，并在传感器上检测由所述第一散射辐射的到达所述传感器的部分与第一参考辐射之间的干涉形成的第一干涉图案；

利用第二照射辐射从在所述结构的参考系中与所述第一照射辐射的方向不同的方向照射所述结构，以产生第二散射辐射，并在所述传感器上检测由所述第二散射辐射的到达所述传感器的部分与第二参考辐射之间的干涉形成的第二干涉图案；以及

使用所述第一干涉图案和所述第二干涉图案来确定所述结构的所述特性，其中：

在所述结构的所述参考系中，所述第一参考辐射到所述传感器上的第一方位角与所述第二参考辐射到所述传感器上的第二方位角不同。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一参考辐射到所述传感器上的第一方位角与所述第二参考辐射到所述传感器上的第二方位角之间的差值为180±30度。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述结构的所述参考系中，所述第一照射辐射到所述结构上的第一方位角与所述第二照射辐射到所述结构上的第二方位角之间的差值名义上为180度。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中：

对辐射束进行分束以产生所述第一照射辐射和所述第一参考辐射；并且

对于所述第一照射辐射和所述第一参考辐射中的每一个，将辐射束被分束的点与所述传感器之间的光程设置为是相等的。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中：

对辐射束进行分束以产生所述第二照射辐射和所述第二参考辐射；并且

对于所述第二照射辐射和所述第二参考辐射中的每一个，将辐射束被分束的点与所述传感器之间的光程设置为是相等的。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中，所述第一散射辐射的到达所述传感器的部分不包括所述第一散射辐射的镜面反射分量。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中，所述第二散射辐射的到达所述传感器的部分不包括所述第二散射辐射的镜面反射分量。

8.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中，所述第一散射辐射的到达所述传感器的部分至少主要由从所述结构散射出的一个或更多个非零阶衍射分量组成。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述第二散射辐射的到达所述传感器的部分至少主要由从所述结构散射出的一个或更多个非零阶衍射分量组成，该一个或更多个非零阶衍射分量的符号与所述第一散射辐射的到达所述传感器的部分的一个或更多个非零阶衍射分量的符号相反。

10.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中，所述第一参考辐射到所述传感器上的第一方位角相对于所述第一照射辐射到所述结构上的第二方位角是倾斜的。

11.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，还包括相对于所述第一照射辐射到所述结构上的方向调节所述第一参考辐射到所述传感器上的方向，从而减小在所述第一干涉图案中对比度随位置的变化。

12.根据权利要求11所述的方法，还包括调节光学系统的光学属性以减小在所述第一干涉图案中对比度随位置的变化，所述光学系统用于将所述第一散射辐射的到达所述传感器的部分从所述结构引导至所述传感器。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述光学属性包括所述光学系统的放大率。