[发明专利]槽罐装置和料位控制方法

权利要求书

1.一种用于低温介质的料位控制的槽罐装置，所述槽罐装置包括：

具有进流管路(10)和排流管路(12)的槽罐(6)；

压差测量机构(16)，所述压差测量机构通过流体管路(26)连接至下槽罐区(28)并且还通过另一流体管路(20)连接至上槽罐区(22)，在所述下槽罐区中存在所述介质的液态部分，在所述上槽罐区中存在所述介质的气态部分；

用于测量所述上槽罐区(22)内的压力和/或温度的绝对压力测量机构(18)和/或温度传感器(18)；

在所述进流管路(10)与所述上槽罐区(22)之间的分支管路(36)内的蒸发器(38)；

控制单元(14A,14B)，所述控制单元调节适于压力调节的气压调节阀(34)，所述气压调节阀在所述分支管路(36)内设于所述蒸发器(38)后面且用于控制所述上槽罐区(22)内的压力；和

与所述压差测量机构(16)以及所述绝对压力测量机构(18)和/或温度传感器(18)相连的罐底压力调节器(32)，所述罐底压力调节器用于控制所述气压调节阀(34)，其特征在于，所述罐底压力调节器(32)被配置用于根据所述介质的所述液态部分的料位将所述槽罐(6)内的所述介质的所述气态部分内的压力控制至恒定的罐底压力。

2.根据权利要求1所述的槽罐装置，其特征是，在所述控制单元(14B,14B)中设有存储器(30)，所述槽罐(6)内的所述低温介质的所述气态部分内的理论压力根据所述低温介质的所述液态部分的所述料位被存储在所述存储器中。

3.根据权利要求2所述的槽罐装置，其特征是，在所述控制单元(14B,14B)中的所述存储器(30)内，所述槽罐内的所述低温介质的所述气态部分内的所述理论压力根据所述低温介质的所述液态部分的所述料位以函数或表的形式被存储。

4.根据权利要求2或3所述的槽罐装置，其特征是，在所述分支管路(36)中的温度传感器(46)在所述气压调节阀(34)区域内被用来调节流通速度，使得设置在所述分支管路(36)中的蒸发器(38)能使所述气压调节阀(34)允许通过的气体量蒸发。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的槽罐装置，其特征是，流通量测量机构(52)设置在所述进流管路(10)内并且流通量调节器(50)设置在所述控制单元(14B,14B)内，它们被配置成通过所述进流管路(10)内的进流调节阀(54)来调节所述低温液体的进流。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的槽罐装置，其特征是，泵(58)与所述进流管路(10)连接，其中所述泵(58)由所述流通量调节器(50)控制。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的槽罐装置，其特征是，流通量测量机构(44)设置在所述排流管路(12)中并且流通量调节器(42)设置在所述控制单元(14B,14B)中，它们配置成通过所述排流管路(12)内的排流调节阀(45)调节所述低温液体的排流。

8.一种用于槽罐内的低温介质的料位控制的方法，该方法包括：

通过压差测量机构(16)测量压差，所述压差测量机构通过连接管路(26)与下槽罐区(28)相连并且还通过另一连接管路(20)与所述上槽罐区(22)相连；

通过所述上槽罐区(22)内的绝对压力测量机构(18)和/或温度传感器(56)在低温介质的气态部分中测量绝对压力，以及

通过气压调节阀(34)控制所述槽罐(6)内的所述低温介质的所述气态部分中的压力，

其中，所述低温介质的所述气态部分内的所述压力通过在进流管路(10)和所述上槽罐区(22)之间的分支管路(36)内的所述气压调节阀(34)被调节，并且所述气压调节阀(34)的控制通过与所述压差测量机构(16)相连的罐底压力调节器(32)进行，其特征是，所述罐底压力调节器(32)根据所述低温介质的所述液态部分的所述料位将所述槽罐(6)内的所述低温介质的所述气态部分内的所述压力调节至恒定的罐底压力。