[发明专利]支持块体擦除操作的三维闪存器件及其制造方法在审
申请号: | 201980036327.5 | 申请日: | 2019-05-28 |
公开(公告)号: | CN112204741A | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 宋润洽 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/11556 | 分类号: | H01L27/11556;H01L27/11524;H01L27/11529 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 李敬文 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 支持 块体 擦除 操作 三维 闪存 器件 及其 制造 方法 | ||
1.一种三维闪存器件,包括:
串,包括在一个方向上延伸的沟道层和相对于所述沟道层竖直堆叠的多个电极层;
上布线层,布置在所述串上;
至少一个中间布线层,在所述串的中间区域中穿过所述沟道层布置在所述多个电极层之间;
下布线层,布置在所述串下方;以及
至少一个连接件,布置在所述至少一个中间布线层中并且将至少两个沟道层彼此连接,所述至少两个沟道层被所述至少一个中间布线层划分。
2.根据权利要求1所述的三维闪存器件,其中,所述至少一个连接件包括N-层以及包围所述N-层并接触所述至少一个中间布线层的N+层。
3.根据权利要求1所述的三维闪存器件,其中,所述至少一个连接件包括被所述至少一个中间布线层包围并接触的N-层。
4.根据权利要求1所述的三维闪存器件,其中,所述至少一个连接件包括被所述至少一个中间布线层包围并接触的N+层。
5.根据权利要求1所述的三维闪存器件,其中,所述三维闪存器件是在包括P型块体和N+接触的衬底上制造的,并且在由所述至少一个连接件彼此连接的所述至少两个沟道层连接到所述块体时支持块体擦除操作。
6.根据权利要求1所述的三维闪存器件,其中,所述至少一个连接件包括:
在所述至少一个中间布线层下方沉积的N+层;以及
布置在N+层上并且被所述至少一个中间布线层包围和接触的N-层。
7.根据权利要求1所述的三维闪存器件,其中,所述至少一个连接件包括:
在所述至少一个中间布线层下方沉积的N+层;以及
被N+层和所述至少一个中间布线层两者包围并接触的N-层。
8.根据权利要求1所述的三维闪存器件,其中,所述上布线层、所述至少一个中间布线层和所述下布线层形成倒阶梯形状,各层的延伸长度彼此不同。
9.根据权利要求8所述的三维闪存器件,其中,所述上布线层、所述至少一个中间布线层和所述下布线层的相应延伸长度按照所述上布线层、所述至少一个中间布线层和所述下布线层的顺序减小。
10.根据权利要求8所述的三维闪存器件,其中,由于由所述上布线层、所述至少一个中间布线层和所述下布线层形成的倒阶梯形状,所述上布线层、所述至少一个中间布线层和所述下布线层分别连接到单个衬底上同一条线上的插塞。
11.根据权利要求1所述的三维闪存器件,其中,所述上布线层、所述至少一个中间布线层和所述下布线层中的每个层被适应性地用作漏电极和源电极之一。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的