[发明专利]吡咯并苯并二氮杂*缀合物

权利要求书

1.一种式I的缀合物：

其中

Ab为在每条重链上具有至少一个自由缀合位点的经修饰抗体

D代表基团D1或D2：

虚线指示C2与C3之间任选存在双键；

当C2与C3之间存在双键时，R²选自由以下组成的组：

(ia)C_5-10芳基，其任选地被一个或多个选自包括以下的组的取代基取代：卤素、硝基、氰基、醚、羧基、酯、C_1-7烷基、C_3-7杂环基以及双-氧基-C_1-3亚烷基；

(ib)C_1-5饱和脂族烷基；

(ic)C_3-6饱和环烷基；

(id)其中R¹¹、R¹²和R¹³中的每一个独立地选自H、C_1-3饱和烷基、C_2-3烯基、C_2-3炔基和环丙基，其中所述R²基团中碳原子的总数不超过5；

(ie)其中R^15a和R^15b中的一个为H并且另一个选自：苯基，所述苯基任选地被选自卤素、甲基、甲氧基的基团取代；吡啶基；以及苯硫基；以及

(if)其中R¹⁴选自：H；C_1-3饱和烷基；C_2-3烯基；C_2-3炔基；环丙基；苯基，所述苯基任选地被选自卤素、甲基、甲氧基的基团取代；吡啶基；以及苯硫基；

当C2与C3之间存在单键时，

R²选自H、OH、F、diF和其中R^16a和R^16b独立地选自H、F、C_1-4饱和烷基、C_2-3烯基，所述烷基和烯基任选地被选自C_1-4烷基酰氨基和C_1-4烷基酯的基团取代；或，当R^16a和R^16b中的一个是H时，另一个选自腈和C_1-4烷基酯；

D’代表基团D’1或D’2：

其中虚线指示C2’与C3’之间任选存在双键；

当C2’与C3’之间存在双键时，R²²选自由以下组成的组：

(iia)C_5-10芳基，其任选地被一个或多个选自包括以下的组的取代基取代：卤素、硝基、氰基、醚、羧基、酯、C_1-7烷基、C_3-7杂环基以及双-氧基-C_1-3亚烷基；

(iib)C_1-5饱和脂族烷基；

(iic)C_3-6饱和环烷基；

(iid)其中R³¹、R³²和R³³中的每一个独立地选自H、C_1-3饱和烷基、C_2-3烯基、C_2-3炔基和环丙基，其中所述R²²基团中碳原子的总数不超过5；

(iie)其中R^25a和R^25b中的一个是H并且另一个选自：苯基，所述苯基任选地被选自卤素、甲基、甲氧基的基团取代；吡啶基；以及苯硫基；以及

(iif)其中R²⁴选自：H；C_1-3饱和烷基；C_2-3烯基；C_2-3炔基；环丙基；苯基，所述苯基任选地被选自卤素、甲基、甲氧基的基团取代；吡啶基；以及苯硫基；

当C2’与C3’之间存在单键时，

R²²选自H、OH、F、diF和其中R^26a和R^26b独立地选自H、F、C_1-4饱和烷基、C_2-3烯基，所述烷基和烯基任选地被选自C_1-4烷基酰氨基和C_1-4烷基酯的基团取代；或，当R^26a和R^26b中的一个是H时，另一个选自腈和C_1-4烷基酯；

R⁶和R⁹独立地选自H、R、OH、OR、SH、SR、NH₂、NHR、NRR’、硝基、Me₃Sn以及卤素；

其中R和R’独立地选自任选取代的C_1-12烷基、C_3-20杂环基以及C_5-20芳基；

R⁷选自H、R、OH、OR、SH、SR、NH₂、NHR、NRR’、硝基、Me₃Sn以及卤素；

R″为C_3-12亚烷基，所述链可被一个或多个杂原子，例如O、S、NR^N2(其中R^N2为H或C_1-4烷基)，和/或芳环，例如苯或吡啶中断；

Y和Y’选自O、S或NH；

R^11a选自OH、OR^A，其中R^A为C_1-4烷基；

R^6’、R^7’、R^9’和R^11a’分别选自与R⁶、R⁷、R⁹和R^11a相同的基团；

并且

R^LL1和R^LL2是在不同位点与所述抗体连接的接头，其独立地选自：

其中

Q是：

其中Q^X是使得Q是氨基酸残基、二肽残基或三肽残基；

X是：

其中a＝0至5，b＝0至16，c＝0或1，d＝0至5；

G^LL为连接至所述抗体的接头，其包括以下基团：