[发明专利]隐形指纹涂料及其形成方法在审
| 申请号： | 201980034964.9 | 申请日： | 2019-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN112218728A | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | M·格维斯;张俸准;E·阿尔蒂纳克 | 申请（专利权）人： | NBD纳米技术公司 |
| 主分类号： | B05D3/04 | 分类号： | B05D3/04;B05D3/10;C09D183/04;C09D5/16 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 翟羽 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 隐形 指纹 涂料 及其 形成 方法 | ||
1.一种耐指纹基材，其通过包括以下的方法制备：
将用于耐指纹涂料的制剂施加到基材的表面上，
其中所述耐指纹表面具有的ΔE小于2。
2.根据权利要求1所述的耐指纹基材，其中所述耐指纹表面具有小于约40°的初始油角以及大于约65°的初始水角。
3.根据权利要求2所述的耐指纹基材，其中所述用于耐指纹涂料的制剂包括下式的烷基硅烷：
(RA)3SiRB，
其中每个RA独立地为-OC1-C6烷基、-OC2-C6烯基或-OC2-C6炔基；
RB为C1-C20烷基、C2-C20烯基或C2-C20炔基；其中-OC1-C6烷基、-OC2-C6烯基、-OC2-C6炔基、C1-C20烷基、C2-C20烯基或C2-C20炔基中的每个氢原子独立地任选地被氘、卤素、-OH、-CN、-OR1、-CO2H、-C(O)OR1、-C(O)OC1-C20-PO3H2、-C(O)NH2、-C(O)NH(C1-C6烷基)、-C(O)N(C1-C6烷基)2、-SC1-C6烷基、-S(O)C1-C6烷基、-S(O)2C1-C6烷基、-S(O)NH(C1-C6烷基)、-S(O)2NH(C1-C6烷基)、-S(O)N(C1-C6烷基)2、-S(O)2N(C1-C6烷基)2、-NH2、-NH(C1-C6烷基)、-N(H)C1-C6烷基-NH2、-N(H)C1-C6烷基-Si(-OC1-C6烷基)3、-N(R1)C1-C6烷基-N(R1)C1-C6烷基-Si(-OC1-C6烷基)3、-N(H)C1-C6烷基-OC1-C6烷基-Si(-OC1-C6烷基)3、-N(H)C1-C6烷基-N(H)C1-C6烷基-NH2、-P(C1-C6烷基)2、-P(O)(C1-C6烷基)2、-PO3H2或-Si(-OC1-C6烷基)3取代；并且其中-N(H)C1-C6烷基-O-C1-C6烷基-Si(-OC1-C6烷基)3的C1-C6烷基中的每个氢原子任选地被羟基取代；以及
R1独立地为氘、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C3-C6环烷基或-C1-C6烷基-O-C1-C6烷基，其中C1-C6烷基中的每个氢原子任选地被羟基取代。
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