[发明专利]涂覆的基材及制备方法

权利要求书

1.一种涂覆的玻璃基材，其包含：

透明的玻璃基材，所述透明的玻璃基材涂覆有阻挡层，所述阻挡层包含具有Si-O-Si键的材料、多元醇和/或二元醇和阻挡组分，

其中所述阻挡组分是能够阻挡10-500nm波长范围内的电磁辐射的材料。

2.根据权利要求1所述的涂覆的玻璃基材，其中所述透明的玻璃基材是玻璃容器，并且其中所述阻挡层位于所述容器的外表面上。

3.根据任一前述权利要求中所述的涂覆的玻璃基材，其中所述具有Si-O-Si键的材料包含具有Si-O-Si键的交联网络的材料，优选地，其中所述具有Si-O-Si键的材料进一步包含一种或多种有机官能团。

4.根据任一前述权利要求中所述的涂覆的玻璃基材，其中所述阻挡组分是能够阻挡200-500nm，优选250-500nm，更优选300-500nm，甚至更优选350-500nm，最优选380-500nm波长范围内的电磁辐射的材料。

5.根据任一前述权利要求中所述的涂覆的玻璃基材，其中所述阻挡组分包含苯并三唑化合物、二苯甲酮化合物、羟苯基三嗪化合物和氰基丙烯酸酯化合物中的一种或多种。

6.根据任一前述权利要求中所述的涂覆的玻璃基材，其中所述涂覆的玻璃基材包含：

透明的玻璃基材，所述透明的玻璃基材涂覆有阻挡层，所述阻挡层包含具有Si-O-Si键的材料、多元醇和/或二元醇和阻挡组分，

其中所述阻挡组分是能够阻挡10-500nm波长范围内电磁辐射的材料，

其中所述透明的玻璃基材是玻璃容器，

其中所述阻挡层覆盖所述容器的至少80％的外表面，

其中所述具有Si-O-Si键的材料包含具有Si-O-Si键的交联网络的材料，

其中所述阻挡组分是能够阻挡350-500nm波长范围内的电磁辐射的材料。

7.根据任一前述权利要求中所述的涂覆的玻璃基材的制备方法，

所述方法包含以下步骤：

a)通过混合至少以下组分制备溶液或混合物：硅烷、多元醇和/或二元醇、阻挡组分、水和酸；

b)将所述溶液或混合物施加于透明的玻璃基材的表面；和

c)固化所施加的溶液或混合物。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，在步骤a)中，在混合后，将溶液或混合物老化至少2小时，更优选至少7小时，甚至更优选至少10小时，最优选至少12小时。

9.根据权利要求7或8所述的方法，其中，在步骤b)中，当将溶液或混合物施加于透明的玻璃基材的表面时，所述透明的玻璃基材处于大于60℃，优选大于80℃，更优选大于100℃，最优选大于110℃，但优选小于200℃，更优选小于160℃，甚至更优选小于140℃，最优选小于130℃的温度下。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的方法，其中，在步骤c)中，将所施加的溶液或混合物固化至少20分钟，优选至少40分钟，更优选至少50分钟，最优选至少55分钟，但优选至多24小时，更优选至多10小时，甚至更优选至多3小时，最优选至多1.5小时。

11.根据权利要求7至10中任一项所述的方法，其中，在步骤c)中，将所施加的溶液或混合物在大于20℃，优选大于100℃，更优选大于160℃，最优选大于190℃，但优选小于400℃，更优选小于300℃，甚至更优选小于240℃，最优选小于210℃的温度下固化。

12.根据权利要求7至11中任一项所述的方法，其中所述硅烷由式(1)表示：

SiX₄ (1)

其中X是水解性性的官能团或卤素原子。