[发明专利]在低发射率薄膜涂层中包括经超快激光处理的含银层的涂覆制品和/或其制备方法

权利要求书

1.一种涂覆制品，所述涂覆制品包括：

玻璃基底；以及

由所述玻璃基底支撑的溅射沉积的低发射率涂层，所述低发射率涂层包括设置在包含氧化锌的层上方并且与所述包含氧化锌的层接触的至少一个银基层；

其中用亚皮秒激光脉冲对所述低发射率涂层进行激光处理，以便减少在所述一个或多个银基层中的空位的数量以及减少在所述银基层与相邻的下面的包含氧化锌的层之间的双晶界的数量，所述亚皮秒激光脉冲每一个具有不超过10^-12秒的持续时间和至少50kW/cm²的能量密度；

其中激光处理后的银基层具有粒度经x射线衍射测量为13.2nm至13.9nm的Ag(111)。

2.根据权利要求1所述的涂覆制品，所述涂覆制品可在其上具有所述低发射率涂层的情况下热处理。

3.根据权利要求1所述的涂覆制品，其中所述玻璃基底是钠钙玻璃。

4.根据权利要求1所述的涂覆制品，其中所述低发射率涂层至少包括第一银基层和第二银基层。

5.根据权利要求1所述的涂覆制品，其中所述包含氧化锌的层还包含锡。

6.一种隔热玻璃单元，包括：

根据权利要求1所述的涂覆制品；

基底；以及

间隔系统，所述间隔系统设置在所述基底的周边边缘周围，从而有助于保持所述涂覆制品和所述基底处于彼此基本上平行的间隔开的关系。

7.一种用于制备涂覆制品的装置，所述涂覆制品包括：玻璃基底；和由所述玻璃基底支撑的溅射沉积的低发射率涂层，所述低发射率涂层包括设置在包含氧化锌的层上方并且与所述包含氧化锌的层接触的至少一个银基层，所述装置包括：

亚皮秒激光器，所述亚皮秒激光器被构造成使用亚皮秒激光脉冲对所述低发射率涂层进行激光处理，以便减少在所述一个或多个银基层中的空位的数量以及减少在所述银基层与相邻的下面的包含氧化锌的层之间的双晶界的数量，所述亚皮秒激光脉冲每一个具有不超过10^-12秒的持续时间和至少50kW/cm²的能量密度；其中激光处理后的银基层具有粒度经x射线衍射测量为13.2nm至13.9nm的Ag(111)。