[发明专利]用于离子源壳体的氢气排气

权利要求书

1.一种用于离子注入系统的终端系统，其中，所述终端系统包括：

离子源壳体；

离子源组件，位于所述离子源壳体内，其中，所述离子源组件包括具有一个或多个孔板的提取电极组件；

气体箱，电连接到所述离子源组件；

气体源，设置在所述气体箱内，其中，所述气体源配置成以与所述离子源组件相同的电位提供气体；以及

排气导管，与所述离子源组件相关联，其中，所述排气导管配置成将所述气体引入到位于所述离子源壳体的内部并且所述一个或多个孔板中的一个或多个孔板的上游的区域。

2.根据权利要求1所述的终端系统，其中，所述排气导管包括一个或多个馈通件，所述馈通件穿过所述离子源组件的主体延伸。

3.根据权利要求2所述的终端系统，其中，所述一个或多个馈通件包括位于所述离子源组件的安装凸缘中的孔。

4.根据权利要求3所述的终端系统，其中，所述安装凸缘包括管状部，所述管状部中限定有通道。

5.根据权利要求4所述的终端系统，其中，所述排气导管还包括气体分配设备。

6.根据权利要求5所述的终端系统，其中，所述气体分配设备包括气体分配环。

7.根据权利要求6所述的终端系统，其中，所述气体分配环通常环绕所述安装凸缘的所述管状部。

8.根据权利要求5所述的终端系统，其中，所述气体分配设备包括位于其圆周周围的多个分配孔。

9.根据权利要求5所述的终端系统，其中，所述气体分配设备位于所述离子源组件的外部并且位于所述提取电极组件的接地板的上游。

10.根据权利要求1所述的终端系统，其中，所述气体源包括配置成产生氢气的氢气发生器。

11.根据权利要求1所述的终端系统，其中，所述离子源和所述气体箱通过多个电绝缘体与所述终端系统的其余部分电绝缘。

12.根据权利要求1所述的终端系统，还包括多个绝缘支座，其中，所述多个绝缘支座将所述终端系统与大地电绝缘。

13.根据权利要求1所述的终端系统，其中，所述气体包括反应性气体和惰性气体中的一种。

14.根据权利要求13所述的终端系统，其中，所述反应性气体包括氢气。

15.根据权利要求13所述的终端系统，其中，所述惰性气体包括氙气。

16.一种离子源，包括：

离子源壳体和设置在所述离子源壳体中的提取电极组件，所述提取电极组件具有一个或多个孔板；

氢气体源，所述氢气体源配置成以与所述离子源相同的电位提供氢气；以及

与所述壳体相关联的排气导管，其中，所述排气导管配置成将氢气引入到通常位于所述离子源壳体的内部和所述提取电极的所述一个或多个孔板中的一个或多个孔板的上游的区域。

17.根据权利要求16所述的离子源，其中，所述排气导管包括流体连接至所述氢气体源的气体分配环，其中，所述气体分配环通常围绕所述离子源壳体的管状部。

18.根据权利要求17所述的离子源，其中，所述气体分配环包括围绕其圆周布置的多个分配孔，并且其中，所述气体分配环位于所述离子源壳体的内部和所述提取电极组件的接地板的上游。

19.根据权利要求16所述的离子源，其中，所述氢气体源包括氢气发生器。

20.一种离子注入系统，包括：

终端，包括：

气体箱，具有产生氢气的氢气发生器；以及

离子源组件，配置成形成离子束，其中，所述离子源组件包括具有电弧腔室和提取电极组件的离子源壳体，其中，所述离子源组件还包括排气导管，所述排气导管配置成将气体引入通常位于所述离子源组件的内部和所述提取电极组件的上游的区域，并且其中，所述离子源组件和所述气体箱处于相同的电位；

束线组件，配置成选择性地传输所述离子束；以及

端站，配置成接收所述离子束，以将离子注入到工件中。