[发明专利]化合物、化合物的制造方法及使用了该化合物的发光材料的制造方法

权利要求书

1.一种化合物，

是以下的式(1)或(2)所示的化合物，具有比式(1)或(2)所示的化合物的分子量大的分子量的杂质的含量为0.15％以下，该杂质的含量是在基于有机溶剂系尺寸排阻色谱法的色谱图中与鉴定为式(1)或(2)的峰相比保留时间短的峰的面积之和相对于全部峰面积之和的百分率；

Z¹-Ar^Y1-Z¹ (1)

式中，Ar^Y1表示亚芳基、2价杂环基、或至少1种亚芳基与至少1种2价杂环基直接键合而得的2价基团，这些基团任选具有取代基；Z¹表示离去基团；

式中，a¹及a²各自独立地表示0以上的整数；Ar^X1及Ar^X3各自独立地表示亚芳基或2价杂环基，这些基团任选具有取代基；Ar^X2及Ar^X4各自独立地表示亚芳基、2价杂环基、或至少1种亚芳基与至少1种2价杂环基直接键合而得的2价基团，这些基团任选具有取代基；R^X1、R^X2及R^X3各自独立地表示氢原子、烷基、芳基或1价杂环基，这些基团任选具有取代基；Z²表示离去基团。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中，

在基于使用反相色谱柱的高效液相色谱的色谱图中，基于面积百分率法的纯度大于99％。

3.根据权利要求1或2所述的化合物，其中，

Z¹、Z²所示的离去基团为选自下面的取代基A组、或B组中的基团：

此处，取代基A组为氯原子、溴原子、碘原子、以及－O－S(＝O)₂R^C1所示的基团，式中，R^C1表示烷基或芳基，这些基团任选具有取代基；

取代基B组为：

－B(OR^C2)₂所示的基团，式中，R^C2表示氢原子、烷基或芳基，这些基团任选具有取代基；存在有多个的R^C2任选相同或不同，任选彼此连结并与各自所键合的氧原子一起形成环结构；

－BF₃Q’所示的基团，式中，Q’表示Li、Na、K、Rb或Cs；

－MgY’所示的基团，式中，Y’表示氯原子、溴原子或碘原子；

－ZnY”所示的基团，式中，Y”表示氯原子、溴原子或碘原子；以及

－Sn(R^C3)₃所示的基团，式中，R^C3表示氢原子、烷基或芳基，这些基团任选具有取代基；存在有多个的R^C3任选相同或不同，任选彼此连结并与各自所键合的锡原子一起形成环结构。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的化合物，其中，

Z¹、Z²所示的离去基团为溴原子、或－B(OR^C2)₂所示的基团，式中，R^C2表示氢原子、烷基或芳基，这些基团任选具有取代基；存在有多个的R^C2任选相同或不同，任选彼此连结并与各自所键合的氧原子一起形成环结构。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的化合物，其在基于缩合反应的化合物的合成中使用。

6.根据权利要求5所述的化合物，其中，

所合成的化合物为有机EL材料。

7.根据权利要求5或6所述的化合物，其中，

所合成的化合物为高分子化合物。

8.一种化合物的制造方法，其包含使用权利要求1～4中任一项所述的式(1)所示的化合物、以及权利要求1～4中任一项所述的式(2)所示的化合物进行缩合反应的工序。