[发明专利]用于粒子的质谱分析的装置和方法

权利要求书

1.一种用于粒子的质谱分析的装置，所述装置包括：

第一辐照单元(4)，所述第一辐照单元(4)被配置为利用电磁辐射辐照粒子(1)以使粒子(1)的成分从粒子(1)分离，特别是解吸、消融和/或蒸发，粒子(1)的分离的成分(2)位于粒子(1)的残留芯(3)的附近；

第二辐照单元(14-16、19)，所述第二辐照单元(14-16、19)被配置为基本上同时地

-利用电磁辐射的第一射束(17)辐照分离的成分(2)的至少一部分、以及可选地粒子(1)的残留芯(3)，以引起分离的成分(2)的至少一部分的电离，电磁辐射的第一射束(17)表现出第一强度；并且

-利用电磁辐射的第二射束(18)辐照粒子(1)的残留芯(3)的至少一部分，以引起粒子(1)的残留芯(3)的成分的至少一部分的电离，电磁辐射的第二射束(18)表现出第二强度，第二强度优选地大于第一强度；以及

质谱仪，所述质谱仪包括离子源区域(5)、第一检测通道(6)、以及可选地第二检测通道(9)，所述离子源区域(5)被配置为容纳分离的成分(2)和/或残留芯(3)的成分的正离子(+)以及可选地负离子(-)，所述第一检测通道(6)被配置为检测所述正离子(+)，并且所述第二检测通道(9)被配置为检测所述负离子(-)。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第二辐照单元(14-16、19)包括第一辐照源(14)、特别是第一激光源以及第二辐照源(19)、特别是第二激光源，所述第一辐照源(14)被配置为产生电磁辐射的第一射束(17)，所述第二辐照源被配置为产生电磁辐射的第二射束(18)。

3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述第一辐射源(14)被配置为产生第一波长的或第一波长范围内的电磁辐射，所述第二辐射源(19)被配置为产生第二波长的或第二波长范围内的电磁辐射，其中，所述第一波长大于所述第二波长，和/或所述第一波长范围位于比所述第二波长范围高的波长处。

4.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第二辐照单元(14-16)包括辐照源(14)，特别是单个激光源、以及光学元件(16)，所述辐照源(14)被配置为产生电磁辐射的第一射束(17)，所述光学元件(16)被配置为产生电磁辐射的第二射束(18)。

5.根据前述任一权利要求所述的装置，其中，电磁辐射的第一射束(17)是基本上平行的射束。

6.根据权利要求4或5所述的装置，其中，所述光学元件(16)是被配置为通过使第一射束(17)的至少一部分聚焦来产生电磁辐射的第二射束(18)的聚焦光学元件。

7.根据权利要求6所述的装置，其中，所述第二辐照单元(14-16、19)被布置为使得电磁辐射的第一射束(17)撞击在分离的成分(2)和/或粒子(1)的残留芯(3)的第一侧，并且所述光学元件(16)包括聚焦镜，所述聚焦镜安置在分离的成分(2)和/或粒子(1)的残留芯(3)的第二侧，其中所述第二侧与所述第一侧相对。

8.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中，所述第二辐照单元(14-16、19)被配置为使得利用第一射束(17)辐照分离的成分(2)以及可选地粒子(1)的残留芯(3)与利用第二射束(18)辐照粒子(1)的残留芯(3)之间的时间差小于20ns，优选地小于5ns，特别是小于1ns。

9.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中，所述电磁辐射的第一射束(17)被配置为引起分离的成分(2)的至少一部分的共振电离(REMPI)，和/或所述电磁辐射的第二射束(18)被配置为引起粒子(1)的残留芯(3)的成分的至少一部分的非共振电离(LDI)。