[发明专利]纺织品亮度测量系统在审
申请号: | 201980030097.1 | 申请日: | 2019-05-02 |
公开(公告)号: | CN112272765A | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 佩曼·H·德库尔迪;K·A·赖恩哈特;大卫·麦卡利斯特 | 申请(专利权)人: | 乌斯特技术股份公司 |
主分类号: | G01N21/898 | 分类号: | G01N21/898 |
代理公司: | 上海德禾翰通律师事务所 31319 | 代理人: | 毛海燕 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纺织品 亮度 测量 系统 | ||
1.一种用于测量纺织品样品(106)的反射辐射和荧光的装置(100),该装置(100)包括:
展示子系统(102),其包括观察窗口(108),
辐射子系统(114),其包括可调辐射源(120),用于将具有波长范围和强度的所需辐射(122)穿过观察窗口(108)引导朝向样品(106)并使样品(106)产生荧光(124),
感测子系统(126),其包括成像器(130),用于捕获像素(408)阵列中的反射辐射和荧光(124),其中每个像素(408)记录在像素位置处的荧光(124)的强度,以及
控制子系统(132),其包括处理器(136),用于控制展示子系统(102)、辐射子系统(114)和感测子系统(126),以及用于产生包含关于样品(106)的反射辐射和荧光(124)的光谱信息和空间信息两者的反射辐射和荧光图像(400)。
2.根据权利要求1所述的装置,其中所述展示子系统(102)还包括用于将所述样品(106)压在所述观察窗口(108)上的压机(104)。
3.根据前述权利要求任意一项所述的装置,其中所述展示子系统(102)还包括校准片(109),用于,响应于具有已知特性的辐射(122),产生具有已知特性的反射辐射和荧光(124)。
4.根据前述权利要求任意一项所述的装置,其中所述辐射子系统(114)还包括光学器件(118),用于在所述辐射(122)到达所述样品(106)之前对来自所述可调辐射源(120)的辐射(122)进行整形和滤光。
5.根据前述权利要求任意一项所述的装置,其中所述辐射子系统(114)还包括用于检测所述辐射(122)的特性的检测器(116)。
6.根据前述权利要求任意一项所述的装置,其中所述可调辐射源(120)还包括能够产生两个或更多个离散辐射范围的源。
7.根据前述权利要求任意一项所述的装置,其中所述可调辐射源(120)还包括能够以所需强度产生辐射(122)的辐射源。
8.根据前述权利要求任意一项所述的装置,其中所述辐射源(120)还包括能够产生两个或更多个离散辐射范围、并且进一步能够以不同的所需强度独立地产生所述两个或更多个辐射范围中的每一个的源。
9.根据前述权利要求任意一项所述的装置,其中所述感测子系统(126)还包括成像器(130),用于捕获像素(408)的二维阵列中的反射辐射和荧光(124)。
10.根据前述权利要求任意一项所述的装置,其中所述感测子系统(126)还包括可变滤光片(128),用于选择性地禁止部分所述反射辐射和荧光(124)到达所述成像器(130)。
11.根据前述权利要求任意一项所述的装置,其中所述控制子系统(126)还包括机器接口(134),用于从另一仪器接收命令并和向另一仪器发送信息。
12.根据前述权利要求任意一项所述的装置,其中所述控制子系统(132)还包括人机界面(138),用于从用户接收命令和向用户发送信息。
13.根据前述权利要求任意一项所述的装置,其中所述控制子系统(132)配置为对所述反射辐射和荧光图像(400)中的图案(402,404,406)进行分类,包括由图案(402,404,406)中的每一个分别表示的反射辐射和荧光图像(400)的百分比。
14.根据前述权利要求任意一项所述的装置,其中所述控制子系统(132)配置为对所述反射辐射和荧光图像(400)中的图案(402,404,406)进行分类,包括图案(402,404,406)中每一个的朝向,其中所述朝向是水平、垂直和无序方向中的至少一种。
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