[发明专利]过滤和光学表征微粒的过滤基板、制造过滤基板的方法及过滤基板的用途

权利要求书

1.一种用于过滤和光学表征微粒的过滤基板，包括厚度为至少100μm且对于波长范围为2500nm至15000nm的辐射的透射度为至少10％的晶片(1)，所述晶片(1)的正面的表面和/或所述晶片(1)的背面的表面全部地或局部地设有防反射层(2)，所述防反射层(2)防止波长范围为200nm至10000nm的辐射的光学反射，并且所述晶片(1)至少局部地具有直径为1μm至5mm的过滤孔(3)。

2.根据前一项权利要求所述的过滤基板，其特征在于，所述防反射层(2)是被引入所述晶片(1)的表面的纳米结构或施加在所述晶片(1)的表面上的纳米结构涂层。

3.根据前述权利要求中任一项所述的过滤基板，其特征在于，所述晶片(1)的厚度大于100μm、优选大于250μm、特别优选大于500μm。

4.根据前述权利要求中任一项所述的过滤基板，其特征在于，所述过滤基板具有用于所述晶片(1)的机械稳定的加强结构。

5.根据前述权利要求中任一项所述的过滤基板，其特征在于，所述晶片(1)是硅晶片，所述硅晶片的掺杂度优选最大为10¹⁸个原子/cm³、特别优选最大为10¹⁷个原子/cm³。

6.根据前述权利要求中任一项所述的过滤基板，其特征在于，所述过滤孔(3)的数量为至少100个、优选地至少10000个、特别优选地至少1000000个。

7.根据前述权利要求中任一项所述的过滤基板，其特征在于：

-所述过滤孔(3)通过激光打孔被引入，和/或

-所述过滤孔(3)分别形成垂直于所述晶片(1)的正面和背面延伸的直通道，和/或

-所述过滤孔(3)具有1μm至4000μm、优选1μm至2500μm、特别优选1μm至1000μm、非常特别优选1μm至500μm的直径，和/或

-所述过滤孔(3)至少局部地以每平方厘米1个过滤孔至每平方厘米1000000个过滤孔的密度、优选以每平方厘米100个过滤孔至每平方厘米10000个过滤孔的密度布置在所述过滤基板中，和/或

-所述过滤孔(3)全部具有相同的直径和/或相同的几何形状。

8.一种用于制造根据前述权利要求中任一项所述的过滤基板的方法，在所述方法中，在厚度为至少100μm且对于波长范围为2500nm至15000nm的辐射的透射度为至少10％的晶片(1)中，至少局部地引入直径为至少1μm的过滤孔(3)，并且在所述晶片(1)的正面的表面和/或所述晶片(1)的背面的表面上全部地或局部地设置防反射层(2)，所述防反射层(2)防止波长范围为200nm至10000nm的辐射的光学反射。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，通过激光打孔实现所述过滤孔(3)的引入。

10.根据权利要求8或9中任一项所述的方法，其特征在于，通过将纳米结构引入到所述晶片(1)的表面中或者在所述晶片(1)的表面上施加纳米结构涂层，来在所述晶片(1)的正面和/或背面上设置所述防反射层(2)。

11.根据权利要求8至10中任一项所述的方法，其特征在于，在引入所述过滤孔(3)之前或之后制造所述防反射层(2)。

12.根据权利要求8至11中任一项所述的方法，其特征在于，所述晶片(1)设有用于对其进行机械加强的加强结构。

13.根据权利要求1至7中任一项所述的过滤基板的用于过滤微粒和随后在所述过滤基板上通过透射光谱法和/或反射光谱法对所述微粒进行光学表征的用途，所述透射光谱法优选为IR光谱法，所述反射光谱法优选为拉曼光谱法。