[发明专利]水平传感器和光刻设备在审
申请号: | 201980024981.4 | 申请日: | 2019-03-13 |
公开(公告)号: | CN111936937A | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
发明(设计)人: | S·R·胡伊斯曼;M·P·瑞因德斯 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王益 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水平 传感器 光刻 设备 | ||
1.一种用于测量衬底的表面的位置的水平传感器,包括:
投影单元,所述投影单元被布置成将辐射束引导至所述衬底的所述表面,
检测单元,包括:
检测光栅,被布置成接收在所述衬底的所述表面上反射的所述辐射束,
一个或更多个检测器,
一个或更多个光学元件,用于将所述辐射束从所述检测光栅引导至所述一个或更多个检测器,以及
处理单元,用于基于由所述一个或更多个检测器所接收的辐射束来确定所述衬底的所述表面的位置,
其中所述检测光栅和所述一个或更多个光学元件被集成在单个集成光学元件中。
2.根据权利要求1所述的水平传感器,其中,所述单个集成光学元件是一体型元件或充当一体型元件。
3.根据前述权利要求中任一项所述的水平传感器,其中,所述一个或更多个检测器被集成在所述单个集成光学元件中。
4.根据前述权利要求中任一项所述的水平传感器,其中,所述单个集成光学元件包括透明材料块,其中,所述检测光栅被布置在所述透明材料块上和/或形成在所述透明材料块的表面上或中。
5.根据权利要求4所述的水平传感器,其中,所述一个或更多个检测器被布置在所述透明材料块上。
6.根据权利要求4所述的水平传感器,其中,所述透明材料块包括至少一个反射表面,所述至少一个反射表面被配置成将所述辐射束或所述辐射束的一部分反射到所述一个或更多个检测器。
7.根据权利要求6所述的水平传感器,其中,所述至少一个反射表面具有弯曲的形状,所述弯曲的形状被配置成将所述辐射束或所述辐射束的一部分聚焦于所述一个或更多个检测器上。
8.根据前述权利要求中任一项所述的水平传感器,其中,所述检测光栅被配置成将所述辐射束拆分成第一束部分和第二束部分,其中,所述一个或更多个检测器被配置成接收所述第一束部分和所述第二束部分。
9.根据权利要求8所述的水平传感器,其中,所述一个或更多个光学元件包括第一透镜和第二透镜,所述第一透镜被配置成将所述第一束部分聚焦于所述一个或更多个检测器上,所述第二透镜被配置成将所述第二束部分聚焦于所述一个或更多个检测器上,其中所述第一透镜和所述第二透镜被集成在所述单个集成光学元件中。
10.根据前述权利要求中任一项所述的水平传感器,其中,所述投影单元被配置成将多个辐射束的阵列引导至所述衬底的所述表面,并且其中,所述检测光栅被配置成接收在所述衬底的所述表面上反射的所述多个辐射束。
11.根据权利要求8和10所述的水平传感器,其中,所述一个或更多个光学元件包括用于每个辐射束的每个第一束部分的一个或更多个第一透镜和用于每个辐射束的每个第二束部分的一个或更多个第二透镜,所述一个或更多个第一透镜被配置成将相应的第一束部分聚焦于所述一个或更多个检测器上,所述一个或更多个第二透镜被配置成将相应的第二束部分聚焦于所述一个或更多个检测器上。
12.根据权利要求8和10所述的水平传感器,其中,所述一个或更多个光学元件包括用于所述多个辐射束的所有第一束部分的第一透镜和用于所述多个辐射束的所有第二束部分的第二透镜,所述第一透镜被配置成将所述第一束部分聚焦于所述一个或更多个检测器上,所述第二透镜被配置成将所述第二束部分聚焦于所述一个或更多个检测器上。
13.根据权利要求8所述的水平传感器,其中,用于将所述辐射束从所述检测光栅引导至所述检测器的所述一个或更多个光学元件包括用于所述多个辐射束中的每一个辐射束的至少一个透镜。
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