[发明专利]可植入颗粒和相关方法

权利要求书

1.一种颗粒，该颗粒包含：

a)第一室；

b)第二室；以及

c)具有式(I-a)的化合物：

或者其药学上可接受的盐，其中：

A是烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基、-O-、-C(O)O-、-C(O)-、-OC(O)-、-N(R^C)-、-N(R^C)C(O)-、-C(O)N(R^C)-、-N(R^C)N(R^D)-、-NCN-、-N(R^C)C(O)(C₁-C₆-亚烷基)-、-N(R^C)C(O)(C₂-C₆-亚烯基)-、-C(＝N(R^C)(R^D))O-、-S-、-S(O)_x-、-OS(O)_x-、-N(R^C)S(O)_x-、-S(O)_xN(R^C)-、-P(R^F)_y-、-Si(OR^A)₂-、-Si(R^G)(OR^A)-、-B(OR^A)-、或金属，其中每一个任选地与连接基团(例如，本文所述的连接基团)连接并且任选地被一个或多个R¹取代；

L¹和L³各自独立地是键、烷基或杂烷基，其中每个烷基和杂烷基任选被一个或多个R²取代；

L²是键；

M是不存在、烷基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基或杂芳基，其各自任选地被一个或多个R³取代；

P是任选被一个或多个R⁴取代的杂芳基；

Z是烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、或杂芳基、其各自任选地被一个或多个R⁵取代；

每个R^A、R^B、R^C、R^D、R^E、R^F和R^G独立地是氢、烷基、烯基、炔基、杂烷基、卤素、叠氮基、环烷基、杂环基、芳基、或杂芳基，其中每个烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、和杂芳基任选地被一个或多个R⁶取代；

或R^C和R^D与它们所连接的氮原子一起形成任选地被一个或多个R⁶取代的环(例如5-7元环)；

每个R¹、R²、R³、R⁴、R⁵和R⁶独立地是烷基、烯基、炔基、杂烷基、卤素、氰基、叠氮基、氧代、-OR^A1、-C(O)OR^A1、-C(O)R^B1、-OC(O)R^B1、-N(R^C1)(R^D1)、-N(R^C1)C(O)R^B1、-C(O)N(R^C1)、SR^E1、S(O)_xR^E1、-OS(O)_xR^E1、-N(R^C1)S(O)_xR^E1、-S(O)_xN(R^C1)(R^D1)、-P(R^F1)_y、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基，其中每个烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、和杂芳基任选地被一个或多个R⁷取代；

每个R^A1、R^B1、R^C1、R^D1、R^E1和R^F1独立地是氢、烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、或杂芳基，其中每个烷基、烯基、炔基、杂烷基、环烷基、杂环基、芳基、杂芳基任选地被一个或多个R⁷取代；

每个R⁷独立地是烷基、烯基、炔基、杂烷基、卤素、氰基、氧代、羟基、环烷基、或杂环基；

x是1或2；并且

y是2、3或4。