[发明专利]硬涂膜、具有硬涂膜的物品、图像显示装置及硬涂膜的制造方法

权利要求书

1.一种硬涂膜，其具有基材、硬涂层及耐磨层，其中，

所述硬涂层包含聚有机硅倍半氧烷的固化物，

所述聚有机硅倍半氧烷至少具有含有(甲基)丙烯酰基的硅氧烷结构单元及含有环氧基的硅氧烷结构单元，且为由下述通式(1)表示的聚有机硅倍半氧烷，

所述耐磨层的膜厚为0.05～5μm，

所述耐磨层包含在1个分子中具有2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物的固化物，

通式(1)中，Ra表示含有(甲基)丙烯酰基的基团，Rb表示含有环氧基的基团，Rc表示1价的取代基，p、q及r分别表示通式(1)中的取代基Ra、Rb及Rc的比率，且为p+q+r＝100，p及q超过0，r为0以上，其中，p/q为0.01～99，在通式(1)中存在多个Ra、Rb及Rc的情况下，多个Ra、Rb及Rc可以分别相同，也可以不同，在通式(1)中存在多个Rc的情况下，多个Rc可以相互形成键，

所述通式(1)中，(p+q)/(p+q+r)为0.5～1.0。

2.根据权利要求1所述的硬涂膜，其中，

所述通式(1)中的Rb为具有环氧基与脂环基的稠环结构的基团。

3.根据权利要求2所述的硬涂膜，其中，

所述具有环氧基与脂环基的稠环结构的基团为具有环氧环己基的基团。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的硬涂膜，其中，

所述通式(1)中，p/q为0.5～2.0。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的硬涂膜，其中，

所述通式(1)中，存在多个Rc，且多个Rc相互形成键，r/(p+q+r)为0.005～0.20。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的硬涂膜，其中，

所述聚有机硅倍半氧烷的重均分子量为2000～20000。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的硬涂膜，其中，

所述在1个分子中具有2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物为由下述通式(2)表示的具有(甲基)丙烯酰基的聚有机硅倍半氧烷，

通式(2)中，Ra表示含有(甲基)丙烯酰基的基团，Rc表示1价的取代基，t及u表示通式(2)中的Ra及Rc的比率，且为t+u＝100，t超过0且u为0以上，在通式(2)中存在多个Ra及Rc的情况下，多个Ra及Rc可以分别相同，也可以不同，在通式(2)中存在多个Rc的情况下，多个Rc可以相互形成键。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的硬涂膜，其中，

所述硬涂层的膜厚为1～50μm。

9.根据权利要求1至3中任一项所述的硬涂膜，其中，

所述基材为塑料基材。

10.一种物品，其具有权利要求1至9中任一项所述的硬涂膜。

11.一种图像显示装置，其具有权利要求1至9中任一项所述的硬涂膜作为表面保护膜。

12.一种硬涂膜的制造方法，其包括：

(I)在基材上涂布包含聚有机硅倍半氧烷的硬涂层形成用组合物而形成涂膜(i)的工序；

(II)通过对所述涂膜进行固化处理而形成硬涂层的工序；

(III)在所述硬涂层上涂布包含在1个分子中具有2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物的耐磨层形成用组合物而形成涂膜(ii)的工序；及

(IV)通过对所述涂膜(ii)进行固化处理而形成耐磨层的工序，

其中，所述聚有机硅倍半氧烷至少具有含有(甲基)丙烯酰基的硅氧烷结构单元及含有环氧基的硅氧烷结构单元，且为由下述通式(1)表示的聚有机硅倍半氧烷，

通式(1)中，Ra表示含有(甲基)丙烯酰基的基团，Rb表示含有环氧基的基团，Rc表示1价的取代基，p、q及r分别表示通式(1)中的取代基Ra、Rb及Rc的比率，且为p+q+r＝100，p及q超过0，r为0以上，其中，p/q为0.01～99，在通式(1)中存在多个Ra、Rb及Rc的情况下，多个Ra、Rb及Rc可以分别相同，也可以不同，在通式(1)中存在多个Rc的情况下，多个Rc可以相互形成键，

所述通式(1)中，(p+q)/(p+q+r)为0.5～1.0。