[发明专利]定影构件、定影装置和电子照相图像形成设备

权利要求书

1.一种电子照相用定影构件，其沿厚度方向依次包括：

基层；

弹性层；和

所述弹性层上的表面层，

所述弹性层包含硅橡胶，

所述表面层由单一层构成，

所述表面层包含氟树脂和具有全氟聚醚结构的氟油，

其特征在于，所述定影构件满足要求(i)和要求(ii)：

(i)对于从所述定影构件获取的包含所述表面层的全部厚度部分的测量样品，当进行包括清洁作为面向所述基层的一侧的相对侧的第一表面的预定位置、和在0.4MPa的压力和180℃的温度下将石英晶体微天平QCM传感器的检测面压在所述位置上50毫秒的处理时，所述检测面的1cm²的单位面积中粘附的包含具有全氟聚醚结构的氟油的粘附物的质量P11为1.0×10²ng以上且1.0×10⁴ng以下；和

(ii)对于已进行所述要求(i)中限定的处理的测量样品，当清洁所述位置之后，进行包括将测量样品放入180℃的温度的环境中120秒，然后在0.4MPa的压力和180℃的温度下将石英晶体微天平QCM传感器的检测面压在所述位置上50毫秒的处理时，所述检测面的1cm²的单位面积中粘附的包含具有全氟聚醚结构的氟油的粘附物的质量P12为0.5×P11以上且1.2×P11以下。

2.一种电子照相用定影构件，其沿厚度方向依次包括：

基层；

弹性层；和

在所述弹性层上的表面层，

所述弹性层包含硅橡胶，

所述表面层由单一层构成，

所述表面层包含氟树脂和具有全氟聚醚结构的氟油，

其特征在于，

对于从所述定影构件获取的包含所述表面层的全部厚度部分的测量样品，

当在0.4MPa的压力和180℃的温度下将石英晶体微天平QCM传感器的检测面压在作为面向所述基层的一侧的相对侧的第一表面上50毫秒，所述检测面的1cm²的单位面积中粘附的包含具有全氟聚醚结构的氟油的粘附物的质量定义为P11ng时，和

当在0.4MPa的压力和180℃的温度下将石英晶体微天平QCM传感器的检测面压在作为面向所述测量样品的所述基层的一侧的第二表面上50毫秒，所述检测面的1cm²的单位面积中粘附的包含具有全氟聚醚结构的氟油的粘附物的质量定义为P21ng时，P21P11。

3.根据权利要求1或2所述的定影构件，其中在所述表面层中所述氟油的含量为所述表面层的1.0质量％以上且25质量％以下。

4.根据权利要求1或2所述的定影构件，其中所述P11为1.0×10²ng以上且5.0×10³ng以下。

5.根据权利要求1或2所述的定影构件，其中所述氟树脂为四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物PFA。

6.根据权利要求1或2所述的定影构件，其中所述表面层的厚度为5.0μm以上且50μm以下。

7.根据权利要求1或2所述的定影构件，其中所述氟油为全氟聚醚。

8.根据权利要求7所述的定影构件，其中所述全氟聚醚具有由结构式(1)表示的化学结构：

在结构式(1)中，a、b、c、d、e和f各自独立地表示0或正整数，并且满足1≤a+b+c+d+e+f≤600，和a、b、c或d中至少一者表示正整数。

9.根据权利要求8所述的定影构件，其中所述全氟聚醚具有选自由结构式(2)至(4)组成的组中的至少一种化学结构：

在结构式(2)至(4)中，m和n各自独立地表示1以上的整数。