[发明专利]在航空航天部件上沉积涂层的方法

权利要求书

1.一种在航空航天部件上沉积涂层的方法，包含：

将航空航天部件暴露于第一前驱物和第一反应物以通过化学气相沉积(CVD)工艺或第一原子层沉积(ALD)工艺在所述航空航天部件的表面上形成第一沉积层；

将所述航空航天部件暴露于第二前驱物和第二反应物以通过第二ALD工艺在所述第一沉积层上形成第二沉积层，其中所述第一沉积层和所述第二沉积层具有彼此不同的成分。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述第一沉积层是通过ALD工艺形成并且所述方法进一步包含顺序地将所述航空航天部件暴露于所述第一前驱物和所述第一反应物以形成所述第一沉积层。

3.如权利要求2所述的方法，其中所述第一ALD工艺的每一循环包含将所述航空航天部件暴露于所述第一前驱物，进行抽吸-净化，将所述航空航天部件暴露于所述第一反应物，且进行抽吸-净化；并且每一循环重复从2次至约500次以在形成所述第二沉积层之前形成所述第一沉积层。

4.如权利要求1所述的方法，其中所述第一沉积层是通过CVD工艺形成并且所述方法进一步包含同时地将所述航空航天部件暴露于所述第一前驱物和所述第一反应物以形成所述第一沉积层。

5.如权利要求1所述的方法，其中所述第一沉积层包含氧化铬、氮化铬、氧化铝或氮化铝，其中所述第二沉积层包含氧化铝、氮化铝、氧化硅、氮化硅、碳化硅、氧化钇、氮化钇、氮化硅钇、氧化铪、氮化铪、硅化铪、硅酸铪、氧化钛、氮化钛、硅化钛、硅酸钛或上述各项的任何组合，且其中如果所述第一沉积层包含氧化铝或氮化铝，那么所述第二沉积层则不包含氧化铝和氮化铝。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述第一前驱物包含铬前驱物或铝前驱物，并且所述第一反应物包含氧化剂、氮化剂或上述各项的组合；且其中所述第二前驱物包含铝前驱物或铪前驱物，并且所述第二反应物包含氧化剂、氮化剂或上述各项的组合。

7.如权利要求1所述的方法，其中所述第一前驱物或所述第二前驱物包含铝前驱物，并且其中所述铝前驱物包含三(烷基)铝、三(烷氧基)铝、二酮酸铝、上述各项的络合物、上述各项的外展物、上述各项的盐或上述各项的任何组合。

8.如权利要求1所述的方法，其中纳米叠层膜堆叠包含所述第一沉积层和所述第二沉积层，并且所述方法进一步包含在增加所述纳米叠层膜堆叠的厚度的同时沉积从2对至约500对的所述第一沉积层和所述第二沉积层。

9.如权利要求8所述的方法，其中每一对所述第一沉积层和所述第二沉积层具有约0.2nm至约50nm的厚度。

10.如权利要求8所述的方法，进一步包含将所述航空航天部件退火并且将所述纳米叠层膜堆叠转变为聚结膜。

11.如权利要求8所述的方法，其中所述第一沉积层包含氧化铝并且所述第二沉积层包含氧化铪，且其中铪的浓度在所述纳米叠层膜堆叠之内为约0.01at％至约10at％。

12.如权利要求1所述的方法，其中所述航空航天部件是涡轮叶片、涡轮轮叶、支撑构件、框架、肋片、鳍片、柱状鳍片、燃烧器燃料喷嘴、燃烧器护罩、内部冷却通道或上述各项的任何组合。

13.如权利要求1所述的方法，其中所述航空航天部件的所述表面是所述航空航天部件的内表面，且其中所述航空航天部件的所述表面包含镍、镍超合金、铝、铬、铁、钛、铪、上述各项的合金或上述各项的任何组合。