[发明专利]光连接器以及搭载其的机器有效
| 申请号: | 201980020026.3 | 申请日: | 2019-03-20 |
| 公开(公告)号: | CN111919154B | 公开(公告)日: | 2022-11-01 |
| 发明(设计)人: | 天野建;乘木晓博;角田胜健 | 申请(专利权)人: | 国立研究开发法人产业技术综合研究所;京瓷株式会社 |
| 主分类号: | G02B6/30 | 分类号: | G02B6/30;G02B6/36 |
| 代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 伍志健;林明校 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 连接器 以及 搭载 机器 | ||
提供用于光波导基板和光纤的连接器部件的连接的光连接器,该光连接器具备:多个定位结构,所述定位结构具有:用于插入一端被插入连接器部件的销的另一端的圆筒状的孔,和在与孔的开口端所处的第一面垂直的第二面形成的槽;槽和孔接续,槽的剖面为圆弧状,孔的剖面所成的圆的中心和槽的剖面所成的圆弧的中心一致;具有剖面成方形的多个凸部的光波导基板上连结了光连接器时,在多个定位结构的各个当中,多个凸部中、对应的凸部的至少两个角部在槽的内壁被支撑。
技术领域
本公开涉及光连接器以及搭载其的机器。
背景技术
在很多装置中,处理器或者存储器等的元件通过电信号途径连接。然而,最近,元件间的数据传输所要求的延迟和从前相比,变得特别短,利用了电信号途径的数据传输渐渐难以满足要求。因此,基于光信号的数据传输备受关注。
例如,提出了在通过PCB(Poly-Chlorinated biphenyl)等形成的聚合物波导基板上的元件配置光波导(例如,参照Richard C.A.Pitwon et.al,Firstlight:PluggableOptical Interconnect Technologies for Polymeric Electro-Optical PrintedCircuit Boards in Data Centers,Journal of Light wave technology,vol.30,No.21,November 1,2012),将该光波导作为向元件导光的手段而利用。例如利用柔性光纤阵列作为从外部向光波导进行导光的手段。
光纤阵列的前端设有光连接器。在将光纤阵列连接到聚合物波导基板上的光波导的情况下,可采用在聚合物波导基板设置光连接器,将光连接器彼此连结的方法。通过采用此方法,可实现光波导和光纤阵列的连接。
在采用上述方法的情况下,如果在相向面光纤纤芯和光波导芯的位置有偏差,会产生光连接损失。并且,如果相向的芯的轴偏差量,以及相向的芯的端面间隔增加,会增大光连接损失。例如,有这种报告,即在连接了SM(Single Mode)光纤的结构的实验中,在轴偏差量为1.6μm的情况下,产生了0.5dB的光连接损失。
为了对齐芯彼此的位置,提出了在连接的两个光连接器分别设置多个孔,将金属销插入孔中而连结两连接器的方法(例如,参照美国专利7,369,728号说明书,美国专利7,447,405号说明书,美国专利7,889,958号说明书)。在此方法中,设置有孔的光波导侧的光连接器(以下,波导侧连接器)和聚合物波导基板的位置需要对齐。
作为对齐波导侧连接器和聚合物波导基板的位置的手段,提出了例如在配置有波导的聚合物波导基板的表面设置定位用凸部,在设置于波导侧连接器的阶梯状的部分架设凸部的方法(例如,参照美国专利7,936,953号说明书)。另外,提出了在和聚合物波导基板相向的波导侧连接器的表面设置台阶,在聚合物波导基板的边缘架设台阶而确定深度方向的位置的方法(例如,参照美国专利公开2012/0114280号公报)。
然而,在上述的任意一种方法中,设置在波导侧连接器的孔以及定位用的结构部(上述的阶梯状的部分或者台阶)均在其他的工序中形成。因此,如果两者的位置没有高精度地对齐,即使孔和芯的位置关系被正确地规定,光波导芯的位置和光纤纤芯的位置也会有偏差。
发明内容
根据本公开的一种方式,提供用于光波导基板和光纤的连接器部件的连接的光连接器。此光连接器具备多个定位结构,所述定位结构具有:用于插入一端被插入连接器部件的销的另一端的圆筒状的孔,和在与孔的开口端所处的第一面垂直的第二面形成的槽;槽和孔接续,槽的剖面为圆弧状,孔的剖面所成的圆的中心和槽的剖面所成的圆弧的中心一致;具有剖面成方形的多个凸部的光波导基板上连结了光连接器时,在多个定位结构的各个当中,多个凸部中,对应的凸部的至少两个角部在槽的内壁被支撑。
本申请要求2018年3月20日申请的日本国的发明专利申请2018-053034号的优先权的利益,并以参考为目的将其整体并入于此。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国立研究开发法人产业技术综合研究所;京瓷株式会社,未经国立研究开发法人产业技术综合研究所;京瓷株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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