[发明专利]化合物、包含其的光致抗蚀剂组合物、包含其的光致抗蚀剂图案和用于制造光致抗蚀剂图案的方法

权利要求书

1.一种由以下化学式1表示的化合物：

[化学式1]

其中，在化学式1中，

R₁和R₂彼此相同或不同，并且各自独立地为氢；卤素基团；腈基；羟基；酯基；经取代或未经取代的烷基；经取代或未经取代的芳基；或者经取代或未经取代的杂芳基，

R₃至R₆彼此相同或不同，并且各自独立地为氢；经取代或未经取代的烷基；经取代或未经取代的环烷基；经取代或未经取代的烷氧基；经取代或未经取代的甲硅烷基；经取代或未经取代的硼基；经取代或未经取代的胺基；经取代或未经取代的芳基膦基；经取代或未经取代的氧化膦基；经取代或未经取代的芳基；或者经取代或未经取代的杂芳基，以及

Ar₁和Ar₂彼此相同或不同，并且各自独立地为氢；卤素基团；经取代或未经取代的烷基；或者经取代或未经取代的芳基。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中R₁和R₂彼此相同或不同，并且各自独立地为氢；卤素基团；酯基；经取代或未经取代的C₁至C₆₀烷基；经取代或未经取代的C₆至C₆₀芳基；或者经取代或未经取代的C₂至C₆₀杂芳基。

3.根据权利要求1所述的化合物，其中R₄至R₆彼此相同或不同，并且各自独立地为经取代或未经取代的C₆至C₆₀芳基。

4.根据权利要求1所述的化合物，其中Ar₁和Ar₂彼此相同或不同，并且各自独立地为氢、或卤素基团，以及Ar₁和Ar₂中的至少一者为卤素基团。

5.根据权利要求1所述的化合物，其中R₃为经取代或未经取代的C₁至C₆₀烷基。

6.根据权利要求1所述的化合物，其中由化学式1表示的化合物为以下化合物中的任一者：

7.一种光致抗蚀剂组合物，包含：

树脂；

根据权利要求1至6中任一项所述的化合物；

光致产酸剂(PAG)；

酸扩散控制剂；和

猝灭剂。

8.根据权利要求7所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述树脂包括选自以下中的一种或更多种：基于(甲基)丙烯酸酯的树脂、降冰片烯树脂、基于苯乙烯的树脂和环氧树脂。

9.根据权利要求7所述的光致抗蚀剂组合物，基于100重量份的所述树脂，以大于或等于0.1重量份且小于或等于20重量份包含所述化合物。

10.根据权利要求7所述的光致抗蚀剂组合物，基于100重量份的所述树脂，以大于或等于0.1重量份且小于或等于20重量份包含所述光致产酸剂。

11.根据权利要求7所述的光致抗蚀剂组合物，基于100重量份的所述树脂，以大于或等于0.1重量份且小于或等于20重量份包含所述酸扩散控制剂。

12.根据权利要求7所述的光致抗蚀剂组合物，还包含选自表面活性剂、光敏剂、和光致产碱剂中的一种或更多种。

13.一种光致抗蚀剂图案，包含根据权利要求7所述的光致抗蚀剂组合物。