[发明专利]密封设备在审

专利信息
申请号: 201980019550.9 申请日: 2019-03-13
公开(公告)号: CN111989512A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 河合俊宏;小仓源五郎 申请(专利权)人: 昕芙旎雅有限公司
主分类号: F16J15/10 分类号: F16J15/10;H01L21/02;H01L21/677
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 丁文蕴;李平
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 密封 设备
【权利要求书】:

1.一种密封设备,其中在壳体的内部空间与所述壳体的外部空间之间存在具有预定值以下的压力差,所述壳体包括:

被组装为形成开口的框架构件;

被附接至所述框架构件以覆盖所述开口的盖构件;以及

被夹在所述框架构件与所述盖构件之间并被构造为延伸为围绕所述开口的密封构件,

其中所述框架构件和所述盖构件由金属薄板形成,并且

其中所述密封构件是具有与所述密封构件的延伸方向正交的中空截面的弹性构件。

2.根据权利要求1所述的密封设备,其中,在所述密封构件中形成有排气孔,所述排气孔被构造为使所述密封构件的中空部和所述外部空间彼此连通。

3.根据权利要求1或2所述的密封设备,其中,在所述框架构件和所述盖构件之间布置有间隔件。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的密封设备,其中,所述密封构件包括形成在与所述框架构件和所述盖构件中的一个构件接触的部分中的突出部,并且

其中,所述突出部在所述密封构件的宽度方向上延伸,所述宽度方向正交于所述延伸方向并且平行于所述框架构件和所述盖构件中的一个构件的与所述密封构件接触的表面。

5.根据权利要求4所述的密封设备,其中,所述突出部仅形成在宽度方向上所述内部空间和所述外部空间中的压力较低的空间的一侧。

6.一种密封设备,其中在壳体的内部空间与所述壳体的外部空间之间存在3000Pa以下的压力差,所述壳体包括:

被组装为形成开口的框架构件;

被附接至所述框架构件以覆盖所述开口的盖构件;以及

被夹在所述框架构件和所述盖构件之间并被构造为延伸为围绕所述开口的密封构件,

其中,所述框架构件和所述盖构件中的至少一个构件由厚度为6mm以下的金属薄板形成,

其中,所述框架构件和所述盖构件包括与所述密封构件接触并且具有0.5mm/m至5mm/m的平坦度的接触表面,并且

其中,所述密封构件是具有与所述密封构件的延伸方向正交的中空截面的弹性构件。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的密封设备,其包括:

被构造为供应惰性气体的供气单元;

被构造为排出所述内部空间中的气体的排气单元;以及

被构造为控制所述供气单元和所述排气单元的控制器,

其中,所述控制器被构造为根据所述内部空间中的压力或气体的供应量来通过所述供气单元以200L/min以下供应惰性气体以及通过所述排气单元排出气体而将所述内部空间中的氧气浓度保持为小于100ppm。

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