[发明专利]将表面纹理化而不使用喷砂

权利要求书

1.一种为部件的表面提供纹理的系统，所述部件使用在半导体处理腔室中，所述系统包含：

外壳，所述外壳包含处理区域；

支撑件，所述支撑件设置在所述处理区域中并包含支撑表面；

光子光源，所述光子光源用于产生光子流；

光学模块，所述光学模块被可操作地耦合到所述光子光源，以接收来自所述光子光源的所述光子流，所述光学模块包含：

光束调制器，所述光束调制器用于从由所述光子光源产生的所述光子流产生光子束；以及

光束扫描器，所述光束扫描器用于使所述光子束跨所述部件的所述表面进行扫描；以及

透镜，所述透镜用于接收来自所述光束扫描器的所述光子束，并跨所述部件的所述表面分布所述光子束，以在所述部件上形成多个特征，所述光子束的波长在约345nm与约1100nm之间的范围内。

2.如权利要求1所述的系统，其中所述透镜被配置为朝向所述部件的所述表面水平地分布所述光子束。

3.如权利要求1所述的系统，其中所述透镜被配置为朝向所述部件的所述表面垂直地分布所述光子束。

4.如权利要求1所述的系统，其中所述部件定位在所述透镜与所述支撑件之间，所述处理区域被维持为1级环境，且所述支撑件的所述支撑表面和所述透镜位于所述1级环境内，所述处理区域包含大抵等于大气压力的压力，并且所述系统进一步包含输送器以将所述部件引入所述1级环境中或从所述1级环境移除所述部件。

5.如权利要求1所述的系统，其中所述光束扫描器被配置为使用逐行图案或麻雀图案使所述光子束跨所述部件的所述表面进行扫描。

6.如权利要求1所述的系统，其中所述光学模块被配置为脉冲化所述光子束同时使所述光子束跨所述部件的所述表面进行扫描。

7.如权利要求6所述的系统，其中所述光子束包含：

在约7μm至约100μm之间的范围内的光束直径；

在约10ps至约30ns之间的范围内的脉冲宽度；及

在约10KHz至约200KHz之间的范围内的脉冲重复速率。

8.如权利要求1所述的系统，其中所形成的所述特征包含凹陷、突起或其组合。

9.一种为部件的表面提供纹理的方法，所述部件使用在半导体处理腔室中，所述方法包含：

产生光子流；

将所述光子流整形为光束；

使所述光子束穿过处理区域朝向所述部件的所述表面进行扫描，所述处理区域包含周围空气或氮气的气体浓度，所述周围空气或氮气的压力大抵等于大气压力；以及

跨所述部件的所述表面分布所述光子束，以在所述表面上形成多个特征。

10.如权利要求9所述的方法，进一步包含组装所述半导体处理腔室与所述部件，以及在所述半导体处理腔室内处理半导体。

11.如权利要求9所述的方法，进一步包含将所述部件定位在被维持为1级环境的外壳内，其中所述定位包含使用输送器将所述部件输送到所述1级环境中。

12.如权利要求9所述的方法，其中所述分布的步骤包含朝向所述部件的所述表面水平地分布所述光子束。

13.如权利要求9所述的方法，进一步包含脉冲化所述光子束，同时使所述光子束跨所述部件的所述表面进行扫描，其中所述光子束包含在约345nm与约1100nm之间的范围中的波长，且所形成的所述特征包含凹陷、突起或其组合。