[发明专利]复合被膜及复合被膜的形成方法有效
| 申请号： | 201980016129.2 | 申请日： | 2019-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN111788328B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 藤井慎也;森口秀树 | 申请（专利权）人： | 日本ITF株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/32;C23C16/27 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨贝贝;臧建明 |
| 地址： | 日本京都府京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 复合 形成 方法 | ||
1.一种复合被膜，包覆在基材上，所述复合被膜的特征在于，
在下层形成有氢含量不足5at％、且膜厚为200nm～1000nm的硬质碳膜A，
在上层形成有氢含量为5at％～30at％、膜厚为210nm～5000nm、且杨氏模量大于200GPa的硬质碳膜B，
所述硬质碳膜A与所述硬质碳膜B直接层叠，
所述硬质碳膜A是将π/σ强度比不同的多个硬质碳层层叠而构成，
位于最上层的所述硬质碳层的π/σ强度比小于比所述位于最上层的硬质碳层位于下层的硬质碳层整体的π/σ强度比，
关于所述硬质碳膜B，
在通过明视场透射型电子显微镜像来观察剖面时，具有相对白的白色硬质碳层与相对黑的黑色硬质碳层，
所述白色硬质碳层与所述黑色硬质碳层以纳米级交替层叠。
2.根据权利要求1所述的复合被膜，其特征在于，所述硬质碳膜A的氢含量不足1at％。
3.根据权利要求1或2所述的复合被膜，其特征在于，
在所述基材与所述硬质碳膜A之间包括Cr、W或Ti的金属中间层，
所述金属中间层的膜厚为30nm～500nm。
4.根据权利要求1或2所述的复合被膜，其特征在于，所述白色硬质碳层及所述黑色硬质碳层的每一层的厚度为0.1nm～10nm。
5.一种复合被膜的形成方法，其特征在于，包括：
硬质碳膜A形成工序，直接或隔着金属中间层在基材上形成氢含量不足5at％、且膜厚为200nm～1000nm的硬质碳膜A；以及
硬质碳膜B形成工序，在所述硬质碳膜A上直接形成氢含量为5at％～30at％、膜厚为210nm～5000nm、且杨氏模量大于200GPa的硬质碳膜B，
所述硬质碳膜A形成工序是通过电弧蒸镀法来进行形成的工序，所述硬质碳膜B形成工序是一边导入烃系气体或氢气一边通过电弧蒸镀法来进行形成的工序，
所述硬质碳膜A是将π/σ强度比不同的多个硬质碳层层叠而构成，
位于最上层的所述硬质碳层的π/σ强度比小于比所述位于最上层的硬质碳层位于下层的硬质碳层整体的π/σ强度比，
关于所述硬质碳膜B，
在通过明视场透射型电子显微镜像来观察剖面时，具有相对白的白色硬质碳层与相对黑的黑色硬质碳层，
所述白色硬质碳层与所述黑色硬质碳层以纳米级交替层叠。
6.根据权利要求5所述的复合被膜的形成方法，其特征在于，在所述硬质碳膜B形成工序中，一边使形成有所述硬质碳膜A的所述基材旋转，一边形成所述硬质碳膜B。
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