[发明专利]具有可调发射能的含螺的铂(II)发射体及其合成在审

专利信息
申请号: 201980015761.5 申请日: 2019-01-18
公开(公告)号: CN111788212A 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 支志明;洪伟鸿;毛茂;程刚 申请(专利权)人: 香港大学
主分类号: C07F15/00 分类号: C07F15/00;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 牟科;邹宗亮
地址: 中国香港*** 国省代码: 香港;81
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摘要:
搜索关键词: 具有 可调 发射 ii 及其 合成
【权利要求书】:

1.一种不对称金属络合物,包括以下结构:

其中M是Pt、Ir、W、Fe、Ru、Ni、Pd、Cu、Au或Zn,其中Ar1是取代或未取代芳族或杂芳族环,其中X是N或其他电子对供体;是并与Ca形成螺单元,其中Ca是桥接原子并可独立为例如,氮、碳、硼、磷、硅、硫或其组合,Ob是键、O、S、NR17、BR17、PR17、CR17R18或SiR17R18,其中Oa是O、S、NR19、BR19、PR19、CR19R20或SiR19R20,其中N1、N2和N4独立为未取代或取代的硼、碳、氮、氧、硅、锗、磷、硫或硒,n是1-3,其中N3是碳、硼、氮、氧、硅、磷、硫或硒;包含N1、N2、N3和N4的环是饱和、不饱和或芳族的环,其中R1独立为氢、取代或未取代烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、环烷基、杂环基、氨基、硝基、羟基、卤素、硫代、烷氧基、卤代烷基、芳基烷或芳基烯基,其中R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8独立为氢、取代或未取代烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、环烷基、杂环基、氨基、硝基、羟基、卤素、硫代、烷氧基、卤代烷基、芳基烷基或芳基烯基,其中R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15和R16独立为氢、卤素、羟基、未取代烷基、取代烷基、环烷基、未取代芳基、取代的芳基、酰基、烷氧基、酰氧基、氨基、硝基、酰基氨基、芳烷基、氰基、羰基、硫代、苯乙烯基、氨基羰基、氨基甲酰基、芳氧基羰基、苯氧基羰基或烷氧基羰基基团,和其中一对相邻的R基团可独立形成5-8元芳基或芳基烷基环,所述5-8元芳基或芳基烷基环中可插入以下基团中的一个或多个:O、S、N或NR21;其中R17、R18、R19、R20和R21独立为烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、环烷基、杂环基、卤代烷基、芳基烷基或芳基烯基。

2.根据权利要求1所述的金属络合物,其中Ar1是芳族环或杂芳族环,其可为取代或未取代的;其中X配位至中心金属原子M;优选地,Ar1是任选取代的杂芳族环,其中X是N,并且取代基独立选自烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、环烷基、杂环基、卤代烷基、芳基烷基或芳基烯基,并且所有取代基任选被以下取代:烷基、烯基或炔基。

3.根据权利要求1或2所述的金属络合物,其中N1、N2和N4独立为硼、碳、氮、氧、硅、锗、磷、硫或硒;其中N3独立为配位至中心金属原子M的碳;包含N1、N2、N3和N4的环是饱和的、不饱和的或芳族的环;其中R1独立为氢、取代或未取代烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、环烷基、杂环基、氨基、硝基、羟基、卤素、硫代、烷氧基、卤代烷基、芳基烷基或芳基烯基;其中n和m中的每个独立为整数1、2或3;优选地,包含N1、N2、N3和N4的环是芳基。

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