[发明专利]使用具有酮基团和两个含硫代羰基硫代基团的引发剂形成的聚合物材料有效
| 申请号： | 201980014633.9 | 申请日： | 2019-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN111757895B | 公开（公告）日： | 2023-01-24 |
| 发明（设计）人： | 凯文·M·莱万多夫斯基;史蒂芬·B·罗斯科;巴布·N·加德丹;布赖恩·T·怀廷;约翰·L·巴蒂斯特 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | C08F2/50 | 分类号： | C08F2/50;C08F120/16;C08F220/18;C08F293/00;C08F265/06;C09J133/00;C09J4/00;C07C327/36;C07C327/38 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 郭国清;宫方斌 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 使用 具有 基团 两个 含硫代 羰基 引发 形成 聚合物 材料 | ||
1.一种第一反应混合物，所述第一反应混合物包含：
a)式(I)的光引发剂
其中
R1为烷氧基、芳烷氧基、烯氧基或–N(R3)2；
每个R2独立地为烷基、芳基、芳烷基、烷芳基或式
–R4-(OR4)n-OR5的基团，或者两个R2基团组合在一起以形成含有羰基基团的环结构；
每个R3为烷基、芳基，或者两个相邻R3基团与它们两者所附接的氮组合以形成具有1至3个选自氮、氧和硫的杂原子的第一杂环，所述第一杂环为饱和的或不饱和的，并且任选地稠合至一个或多个第二环，所述一个或多个第二环为碳环或杂环；
每个R4为烷亚基；
R5为烷基；
n为大于或等于零的整数；以及
b)第一单体组合物，所述第一单体组合物包含至少一种具有单个烯属不饱和基团的单体，其中所述第一单体与所述光引发剂的摩尔比为至少3:1。
2.一种式(II)的聚合物材料
其中
R1为烷氧基、芳烷氧基、烯氧基或–N(R3)2；
每个R2独立地为烷基、芳基、芳烷基、烷芳基或式
–R4-(OR4)n-OR5的基团，或者两个R2基团组合在一起以形成含有羰基基团的环结构；
每个R3为烷基、芳基，或者两个相邻R3基团与它们两者所附接的氮组合以形成具有1至3个选自氮、氧和硫的杂原子的第一杂环，所述第一杂环为饱和的或不饱和的，并且任选地稠合至一个或多个第二环，所述一个或多个第二环为碳环或杂环；
每个R4为烷亚基；
R5为烷基；
n为大于或等于零的整数；
每个P为聚合物嵌段，所述聚合物嵌段包含第一单体组合物的聚合产物，所述第一单体组合物包含至少一种具有单个烯属不饱和基团的单体；
y为在1至10范围内的整数；并且
z为在1至10范围内的整数。
3.一种可交联组合物，所述可交联组合物包含：
a)式(II)的聚合物材料
其中
R1为烷氧基、芳烷氧基、烯氧基或–N(R3)2；
每个R2独立地为烷基、芳基、芳烷基、烷芳基或式
–R4-(OR4)n-OR5的基团，或者两个R2基团组合在一起以形成含有羰基基团的环结构；
每个R3为烷基、芳基，或者两个相邻R3基团与它们两者所附接的氮组合以形成具有1至3个选自氮、氧和硫的杂原子的第一杂环，所述第一杂环为饱和的或不饱和的，并且任选地稠合至一个或多个第二环，所述一个或多个第二环为碳环或杂环；
每个R4为烷亚基；
R5为烷基；
n为大于或等于零的整数；
每个P为聚合物嵌段，所述聚合物嵌段包含第一单体组合物的聚合产物，所述第一单体组合物包含至少一种具有单个烯属不饱和基团的单体；
y为在1至10范围内的整数；
z为在1至10范围内的整数；以及
b)第二单体组合物，所述第二单体组合物包含具有至少两个烯属不饱和基团的交联单体。
4.一种交联组合物，所述交联组合物包含根据权利要求3所述的可交联组合物的固化产物。
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