[发明专利]热管理

权利要求书

1.一种使硅与水反应以产生氢的方法，所述方法包括：

(i)将含硅组合物放置在反应容器中，所述反应容器包括反应物接触表面，所述反应物接触表面包括具有热导率TC1的导热第一区域和具有热导率TC2的绝热第二区域，其中,TC1在25℃下大于10W/m·K，TC2在25℃下为5W/m·K或更小；

(ii)将所述含硅组合物放置在所述绝热第二区域上；

(iii)使所述含硅组合物与水接触。

2.根据权利要求1的方法，其中，所述导热第一区域基本上不与所述含硅组合物接触。

3.根据权利要求1或2的方法，其中，所述导热第一区域包含金属、或金属的混合物、或合金。

4.根据权利要求1或2的方法，其中，所述导热第一区域包含不锈钢。

5.根据权利要求1或2的方法，其中，所述绝热第二区域包含表现出在25℃下小于4、3、2或1W/m·K的热导率的材料。

6.根据权利要求1或2的方法，其中，所述绝热第二区域包含陶瓷、或聚合物、或塑料材料。

7.根据权利要求1或2的方法，其中，所述导热第一区域和所述绝热第二区域的热导率之差为在25℃下大于10W/m·K。

8.一种用于硅和水的反应的反应容器，所述反应容器具有底壁和外围壁，所述反应容器具有反应物接触表面，所述反应物接触表面由具有相对高的热导率TC1的第一材料形成或包含具有相对高的热导率TC1的第一材料，并且包含具有相对低的热导率TC2的第二材料，热导率之差(TC1-TC2)大于5W/m·K，其中，TC1大于10W/m·K，并且TC2为5W/m·K或更小，并且其中，在使用中，在水和硅位于反应容器内的情况下，将第一材料放置成使得其与水接触，并且所述硅位于所述第二材料上。

9.根据权利要求8的容器，其中所述底壁和外围壁提供所述反应物接触表面。

10.根据权利要求9的容器，其中所述底壁包括绝热第二区域。

11.根据权利要求8至10中任一项的容器，其中所述外围壁包括导热第一区域。

12.根据权利要求8至10中任一项的容器，其中，在使用中，所述外围壁基本上不与反应物硅接触。

13.根据权利要求8至10中任一项的容器，其中，在使用中，所述底壁与硅和水两者接触。

14.根据权利要求11的容器，其中，所述导热第一区域包含金属、或金属的混合物、或合金。

15.根据权利要求11的容器，其中，所述导热第一区域包含不锈钢。

16.根据权利要求10的容器，其中，所述绝热第二区域包含表现出在25℃下小于1W/m·K的热导率的材料。

17.根据权利要求10的容器，其中，所述绝热第二区域包含陶瓷、或聚合物、或塑料材料。

18.根据权利要求11的容器，其中，所述导热第一区域和所述绝热第二区域的热导率之差为在25℃下大于6、7、8、9或10W/m·K。

19.根据权利要求8至10中任一项的容器，其中，所述反应物接触表面包括插入物。

20.根据权利要求19的容器，其中，所述插入物是金属插入物。