[发明专利]清洁腔室的装置和方法

权利要求书

1.一种用于清洁沉积氧化锌的腔室的腔室清洁方法，所述方法包含：

供应含氯气体和含氢气体到所述腔室中；

使独立供应的所述含氯气体和所述含氢气体在所述腔室中活化并彼此反应，以产生反应气体；以及

使用所述反应气体第一次清洁所述腔室。

2.根据权利要求1所述的腔室清洁方法，其中，所述供应含氯气体和含氢气体的步骤中，所述含氯气体和所述含氢气体是独立地被供应。

3.根据权利要求1所述的腔室清洁方法，其中，所述反应气体包含氯化氢气体。

4.根据权利要求1所述的腔室清洁方法，其中，在所述产生反应气体的步骤中，所述含氯气体在气体注入部的外部被活化，而所述含氢气体从所述气体注入部的内部被活化。

5.根据权利要求1所述的腔室清洁方法，其中，在所述产生反应气体的步骤中，所述含氯气体和所述含氢气体于相互具有不同尺寸的活化区域被活化。

6.根据权利要求1所述的腔室清洁方法，其中，在所述产生反应气体的步骤中，在所述腔室的内部活化的所述含氯气体和所述含氢气体反应于所述气体注入部的外部。

7.根据权利要求1所述的腔室清洁方法，还包含：

用活化的含氢清洁气体第二次清洁所述腔室；以及

用活化的含氧清洁气体第三次清洁所述腔室。

8.根据权利要求7所述的腔室清洁方法，其中，

第二次清洁的步骤包含移除残留在所述腔室中的氯成分，以及

第三次清洁的步骤包含移除残留在所述腔室中的氢成分。

9.根据权利要求8所述的腔室清洁方法，其中，

所述移除氯成分的步骤通过在所述腔室中活化所述含氢清洁气体来进行，以及

所述移除氢成分的步骤通过在所述腔室中活化所述含氧清洁气体来进行。

10.根据权利要求8所述的腔室清洁方法，其中，所述含氢清洁气体与所述含氢气体通过相同的路径被供应到所述腔室中。

11.根据权利要求7所述的腔室清洁方法，其中，在150-350℃的温度下进行第一次清洁的步骤、第二次清洁的步骤和第三次清洁的步骤。

12.一种腔室清洁装置，包含：

第一气体供应部，用以供应第一气体；

第二气体供应部，用以供应第二气体；

气体注入部，安装于腔室内并形成有第一气体供应路径和第二气体供应路径，所述第一气体供应路径用于供应所述第一气体而所述第二气体供应路径用于供应所述第二气体，所述第一气体供应路径和所述第二气体供应路径是独立的；

电源供应部，连接于所述气体注入部并用以提供电源到所述气体注入部；以及

控制单元，用以控制所述气体注入部和所述电源供应部以便通过活化所述第一气体和所述第二气体并使所述第一气体和所述第二气体彼此反应，来产生用于侵蚀所述腔室中的副产物的反应气体。

13.根据权利要求12所述的腔室清洁装置，其中，所述气体注入部包含：

上框架，安装于所述腔室中；以及

下框架，设置成向下地间隔于所述上框架；

其中加热元件安装于所述上框架和所述下框架中至少一者的内部。

14.根据权利要求13所述的腔室清洁装置，其中，所述加热元件安装于所述上框架和所述下框架中的至少一者，以便分成多个部分。

15.根据权利要求13所述的腔室清洁装置，其中，冷却元件安装于所述上框架和所述下框架中至少一者的内部。