[发明专利]雷射引发前向传送(LIFT)沉积设备及方法

权利要求书

1.一种沉积设备(100)，其将来自一施体基板(10)之一施体表面(12)的具有黏性性质之施体材料(14)沉积于一目标基板(20)的一目标表面(22)上，该设备包含：

携载该目标基板(20)之一目标基板载体(120)及携载该施体基板(10)之一施体基板载体(110)，该施体基板(10)与该目标基板(20)相对而该施体表面(12)及该目标表面(22)彼此面对；

一光束产生器(130)，其产生一光束(30)，该光束(30)将被导引通过该施体基板(10)朝向该施体材料(14)，该光束具有一光轴(32)，该光轴(32)在该目标表面(22)中具有一交点(34)；

一定位装置(150)，其控制该交点(34)之一位置；

一控制器(160)，其控制该光束产生器(130)之操作，且控制该定位装置(150)，

其中在该沉积设备(100)之一操作状态中，该控制器(160)经组配来接收规格数据(DS)，而该规格数据(DS)指定了施体材料在该目标表面(22)上之一所要空间分布，其中该控制器(160)产生一位置控制信号(S140，S150)以控制该定位装置，及产生一射束产生器控制信号(S130)以根据该所要空间分布去控制该光束产生器之操作，且其中该光束产生器(130)回应于该射束产生器控制信号而产生该光束(30)，以使施体材料自该施体表面(12)朝向该目标表面(22)上之取决于该位置控制信号(S140，S150)的一位置传送；

其中该光束产生器(130)经进一步组配来以一可控制之空间能量分布去产生该光束(30)以射出施体材料的一部分，且其中该控制器(160)经组配来根据所接收之该规格数据(DS)去产生该射束产生器控制信号(S130)以控制该空间能量分布，其特征在于，该光束产生器(130)经组配来产生一光束，而该光束导致该施体材料之一传送作为一喷射，该控制器(160)经组配来根据该规格数据而以该喷射待呈现之一形状为基础，来控制该光束产生器(130)以产生出具有一实质上非对称空间分布的该光束。

2.根据权利要求1所述的沉积设备，其中该控制器(160)经组配来发出一射束产生器控制信号(S130)，该射束产生器控制信号使该光束产生器(130)产生出具有一空间能量分布之该光束，而该空间能量分布在围绕该光束之光轴的一环形区(30r)中所具有的一平均能量密度，系高于在该环形区之一内边界(30ri)内的一平均能量密度。

3.根据前述权利要求中任一项所述的沉积设备，其中该光束产生器包含一光辐射源(131)及一射束成形器(134，135)。

4.根据权利要求3所述的沉积设备，其中该射束成形器包括成对的一第一及一第二旋转三棱镜。

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其进一步包含一回馈控制单元(310)，该回馈控制单元(310)根据观测数据来调适该控制器对于所接收之该规格数据的一响应。

6.根据权利要求5所述的设备，其进一步包含：提供喷射观测资料之一喷射监视设备，该喷射观测数据指出了作为观测数据的经传送施体材料之该喷射的一观测到的发展。

7.根据权利要求5或6所述的设备，其进一步包含：提供目标观测数据之一目标监视设备，该目标观测数据指出了作为观测数据的在该目标表面上之经沉积施体材料的所观测性质。

8.一种沉积方法，其包含以下步骤：

与一目标基板相对而配置一施体基板，该施体基板具有一表面，而该表面系面对该目标基板且具备一黏性施体材料，该施体材料在一升高温度下具有黏弹性性质，

产生一光束，且经由该施体基板将该光束导引至该施体材料，以便释放该施体材料且朝向该目标基板传送该施体材料，

接收一输入信号，且基于该输入信号来控制该光束之一能量曲线分布；

其特征为：

产生该光束以传送该施体材料作为一喷射，该光束根据该输入信号中之一规格而基于该喷射待呈现之一形状，可控制地被产生而具有一实质上非对称空间分布。