[发明专利]抗菌用多孔质材料及含有其的抗菌加工产品、以及使用其的抗菌方法

说明书

本发明的目的在于提供一种不利用光催化作用的抗菌用多孔质材料。本发明的抗菌用多孔质材料的特征在于：其是在多孔质二氧化硅上担载有含有铂族金属的粒子的抗菌用多孔质材料，且该抗菌用多孔质材料的细孔径为1～50nm，且BET比表面积为300～2000m²/g。

技术领域

本发明涉及一种在多孔质二氧化硅上担载有铂族金属的抗菌用多孔质材料；含有该抗菌用多孔质材料的抗菌剂、抗菌膜、抗菌加工产品及抗菌用分散液；及使用它们的抗菌方法，进一步还涉及一种抗菌加工产品的制造方法。

背景技术

一直以来，就卫生方面的观点出发、或者为了提高食品或化妆品的保存性，使用各种抗菌剂，例如使用天然抗菌剂或合成抗菌剂。一般情况下，合成抗菌剂已知了有机系抗菌剂及无机系抗菌剂，有机系抗菌剂已知有苯甲酸酯类或山梨酸盐等，但效果持续时间有时为1～2个月左右，较短。另外，关于天然抗菌剂，已经指出其供给不稳定，生产需要花费较大成本。

另一方面，无机系抗菌剂已知有含有银离子、铜离子等的抗菌剂。但是，银离子或铜离子存在容易受到光、热、共存物质等的影响的问题点。

另外，还已知一种利用光催化作用的抗菌剂，在专利文献1中揭示了一种包含氧化钨的抗菌剂。该抗菌剂通过氧化钨的光催化作用，在光照射下发挥较高的抗菌性能。然而，利用光催化作用的抗菌剂在暗处下抗菌性能并不充分，因此在专利文献2中揭示了一种即便在暗处或切断了紫外线的荧光灯的光照射下，也表现出抗菌性能的抗菌剂。

先前技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2009/110233号

专利文献2：日本专利特开2013-216596号

发明内容

[发明所要解决的问题]

就在利用光催化作用的抗菌剂的情况下，必须需要任一种的光照射而言，期待开发不利用光催化作用的抗菌剂。

因此，本发明的目的在于提供一种不利用光催化作用的抗菌用多孔质材料。进一步而言，其目的在于提供一种含有抗菌用多孔质材料的抗菌剂、抗菌膜、抗菌加工产品及抗菌用分散液。进一步而言，其目的在于提供一种使用它们的抗菌方法及抗菌加工产品的制造方法。

[解决问题的技术手段]

本发明人等进行了努力研究，结果发现在多孔质二氧化硅上担载有含有铂族金属的粒子的抗菌用多孔质材料能够解决所述课题，从而完成本发明。具体而言，本发明的抗菌用多孔质材料的特征在于：其是在多孔质二氧化硅上担载有含有铂族金属的粒子的抗菌用多孔质材料，该抗菌用多孔质材料的细孔径为1～50nm，且BET(Brunauer-Emmett-Teller，布厄特)比表面积为300～2000m²/g。

在本发明的抗菌用多孔质材料中，包含如下所述的形态：所述铂族金属是选自铂、铑、钌、铱及钯的至少一种。

本发明的抗菌剂的特征在于含有本发明的抗菌用多孔质材料。

本发明的抗菌膜的特征在于含有本发明的抗菌用多孔质材料。

本发明的抗菌加工产品的特征在于加工产品含有本发明的抗菌用多孔质材料。

在本发明的抗菌加工产品中，所述加工产品优选为无纺布、蜂窝陶瓷、或蜂窝纸的任一种。

本发明的抗菌加工产品的制造方法的特征在于具有如下所述的工序：将分散有本发明的抗菌用多孔质材料的分散液涂布在加工产品的表面而形成抗菌膜。

在本发明的抗菌加工产品的制造方法中，所述加工产品优选为无纺布、蜂窝陶瓷、或蜂窝纸的任一种。

本发明的抗菌方法的特征在于使用本发明的抗菌剂。