[发明专利]光伏器件中吸收层的V族掺杂方法在审
申请号: | 201980010956.0 | 申请日: | 2019-01-14 |
公开(公告)号: | CN111630669A | 公开(公告)日: | 2020-09-04 |
发明(设计)人: | S·格罗弗;陆定原;R·马利克;熊刚 | 申请(专利权)人: | 第一阳光公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 童春媛;杨思捷 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 器件 吸收 掺杂 方法 | ||
1.一种掺杂吸收层的方法,所述方法包括:
使吸收层与退火化合物接触,其中:
吸收层包含镉和碲;
退火化合物包含氯化镉和包含阴离子和阳离子的V族盐;
阴离子、阳离子或二者包含V族元素;
按重量/体积计,退火化合物内氯化镉与V族盐之比为至少30:1;和
使吸收层退火,由此用退火化合物的V族元素的至少一部分掺杂吸收层。
2.权利要求1的方法,其中退火化合物为溶液,并且V族盐与退火化合物总量的比例小于100克/升。
3.权利要求2的方法,其中V族盐与退火化合物总量的比例在1/25克/升和20克/升之间。
4.权利要求1的方法,其中吸收层的晶粒粒度在吸收层退火期间增大。
5.权利要求1的方法,其中V族盐为砷酸二氢铵。
6.权利要求1的方法,其中V族盐为磷酸氢二铵。
7.权利要求1的方法,其中V族元素为氮。
8.权利要求1的方法,其中V族元素为磷。
9.权利要求1的方法,其中V族元素为砷。
10.权利要求1的方法,其中V族元素为锑。
11.权利要求1的方法,其中V族元素为铋。
12.权利要求1的方法,所述方法包括在使吸收层退火的同时使吸收层暴露于还原环境。
13.权利要求12的方法,其中还原环境包括构造成减轻V族氧化物生成的形成气体,所述形成气体包括氢、氮、碳或其组合。
14.权利要求1的方法,其中吸收层在350℃和500℃之间的温度下退火5分钟至60分钟。
15.权利要求1的方法,其中:
退火化合物包括碱金属氯化物;并且
至少部分V族掺杂剂在吸收层退火期间活化。
16.权利要求1的方法,其中在使吸收层退火后,在吸收层中心区域中的V族掺杂剂的原子浓度大于1x1016cm-3。
17.权利要求1的方法,其中吸收层包含硒。
18.权利要求1至3中任一项的方法,其中吸收层的晶粒粒度在吸收层退火期间增大。
19.权利要求1至3和18中任一项的方法,其中V族盐为砷酸二氢铵。
20.权利要求1至3和18中任一项的方法,其中V族盐为磷酸氢二铵。
21.权利要求1至3和18中任一项的方法,其中V族元素为氮。
22.权利要求1至3和18中任一项的方法,其中V族元素为磷。
23.权利要求1至3和18至20中任一项的方法,其中V族元素为砷。
24.权利要求1至3和18中任一项的方法,其中V族元素为锑。
25.权利要求1至3和18中任一项的方法,其中V族元素为铋。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的